[发明专利]一种GaN基混合式三维成像与测距装置有效

专利信息
申请号: 202011473391.0 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112490257B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 雷建明 申请(专利权)人: 南京工业职业技术大学
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L25/16
代理公司: 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 代理人: 项磊
地址: 210001 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 gan 混合式 三维 成像 测距 装置
【说明书】:

发明公开一种GaN基混合式三维成像与测距装置,涉及测距成像领域,包括处理器、晶圆片、硅晶片、GaN紫外发光二极管、GaN紫外日盲APD、GaN红外探测管和PCB板,解决了激光测距仪均不能成像、激光刺眼、红外成像误判率高且为二维成像、CCD成像成本高且不易单片集成等问题。其包括使用单片集成的GaN紫外发光二极管阵列,和GaN紫外日盲APD、GaN红外探测器非致冷焦平面阵列,可同时实现红外和紫外的成像和测距。其实现的特点是采用三种单片集成的GaN器件的混合工作方式,在无需额外激光源的情况下,实现在极暗的环境下完成高质量的成像与测距,且抗干扰能力强、人体无察觉、成本适中、小尺寸、低损耗。

技术领域

本发明涉及测距成像领域,具体涉及一种GaN基混合式三维成像与测距装置。

背景技术

目前,激光测距成为主流,而常见的激光测距仪均不能成像。激光的光强很强,如果照射到人的眼睛,会导致人体不识甚至短暂致盲,不适合在居家等环境中使用,且需要一个独立的激光发射源提供光源以及计数、计时的基点值。另一方面,红外成像仪作为成像方式的热门,成本低廉却不能用来测距,且红外成像仪最大的缺点是环境中发热的物体很多,容易造成相互干扰,形成误判。而采用CCD等的成像方式成本较高,且不利用于向单片集成方向扩展发展。

紫外日盲APD探测器采用了200-280nm的紫外波段,其电流增益可达1.6x105,响应速度快。而一般激光的波长均处在人眼实际可见的光波长范围内(312-1050nm)。紫外日盲APD探测器发出的光我们肉眼看不见,抗干扰能力极强,且能够在极暗环境下进行拍照,非常适合用来替代激光测距,使用户完全不察觉,还能够协助红外技术制作成像与人体识别。另外,GaN材料通过对InGaN和AlGaN中In和Al的组份,形成不同的红外探测二极管和紫外日盲APD二极管,可以将红外成像阵列和紫外日盲测距阵列整合在一起,做在同一个晶圆上,使其集成度提高,且相互不干扰、成本适中,从而实现高质量、人体无察觉的成像与测距功能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种GaN基混合式三维成像与测距装置,该装置解决了激光测距仪均不能成像、激光刺眼、红外成像误判率高且为二维成像、CCD成像成本高且不易单片集成等问题。其包括使用单片集成的GaN紫外发光二极管阵列,和GaN紫外日盲APD、GaN红外探测器非致冷焦平面阵列,可同时实现红外和紫外的成像和测距。其实现的特点是采用三种单片集成的GaN器件的混合工作方式,在无需额外激光源的情况下,实现在极暗的环境下完成高质量的成像与测距,且抗干扰能力强、人体无察觉、成本适中、小尺寸、低损耗。

一种GaN基混合式三维成像与测距装置,包括处理器、晶圆片、硅晶片、GaN紫外发光二极管、GaN紫外日盲APD、GaN红外探测管和PCB板,所述GaN紫外发光二极管、GaN紫外日盲APD和GaN红外探测管各设有若干个,并对应阵列在晶圆片上构成单片集成一,所述硅晶片设有APD读出电路、红外读出电路和发光控制及计数电路,构成单片集成二,所述单片集成一设在单片集成二上方,所述单片集成二连接在PCB板的上表面,所述处理器设在PCB板的下表面。

优选的,所述单片集成一通过In柱与单片集成二互联。

优选的,所述晶圆片的衬底采用SiC、GaN、Si或者蓝宝石制成。

优选的,所述硅晶片的衬底采用单晶Si制成。

优选的,所述APD读出电路和发光控制及计数电路分别控制GaN紫外日盲APD和GaN紫外发光二极管工作于高频脉冲状态,且二者同步工作。

优选的,所述红外读出电路通过GaN红外探测管联合紫外辅助成像、测距与物体识别,由处理器根据两者的数据构建三维环境图。

优选的,通过局部测绘法以及数据差值法,GaN紫外日盲APD重点测绘红外图像的不同颜色深度的发光边界,进而对数据进行修正、判断以及三维重构。

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