[发明专利]用于半导体粉料摩擦催化的磁力转盘

权利要求书

1.采用磁力转盘对反应容器中的半导体粉料进行摩擦催化的方法，其特征在于：

在反应容器中，加入50纳米的二氧化钛纳米粉1.5克，加入浓度为0.1mol/L、50毫升的氯化钠溶液；在该反应容器中加入所述磁力转盘，并充入高纯二氧化碳气体鼓泡5分钟，用夹具将整个装置密封，以每分钟500转的速度进行磁力转动，期间遮光，恒定室温25℃；

其中，经过30小时的搅拌，抽取容器中的气体样本，甲烷浓度为3.16ppm，一氧化碳浓度为7.56ppm，氢气浓度69.9ppm；

所述磁力转盘包括：摩擦盘，底面为圆盘状，采用能与半导体粉料进行摩擦产生摩擦催化效应的摩擦材料制成，并且底面积与所述反应容器的底面积相匹配；磁力构件，设置在所述摩擦盘上，能够在外部磁力搅拌机作用下带动所述摩擦盘进行旋转；以及连接层，将所述磁力构件与所述摩擦盘固定相连；

所述摩擦盘的底面积为所述反应容器底面积的1/2~3/4；所述摩擦盘、所述连接层、所述磁力构件至下而上依次设置，并且所述磁力转盘的重心位于所述摩擦盘；

所述磁力构件为多个辐射状排列的仅具有磁芯的磁力转子；所述连接层底面设有锁合件，所述摩擦盘顶部设有与所述锁合件相匹配的锁紧槽，所述连接层与所述摩擦盘通过所述锁合件和所述锁紧槽实现可拆卸相连。

2.采用磁力转盘对反应容器中的半导体粉料进行摩擦催化的方法，其特征在于：

在反应容器中加入5纳米的二氧化钛纳米粉1.5克，加入50毫升的0.0001M的醋酸溶液；在该反应容器中加入磁力转盘，并用夹具将整个装置密封，以每分钟500转的速度进行磁力转动，期间遮光，恒定室温25℃；

其中，经过30小时的搅拌，抽取容器中的气体样本，甲烷浓度为2.69ppm，一氧化碳浓度为20.81ppm，氢气浓度22.0ppm；

所述磁力转盘包括：摩擦盘，底面为圆盘状，采用能与半导体粉料进行摩擦产生摩擦催化效应的摩擦材料制成，并且底面积与所述反应容器的底面积相匹配；磁力构件，设置在所述摩擦盘上，能够在外部磁力搅拌机作用下带动所述摩擦盘进行旋转；以及连接层，将所述磁力构件与所述摩擦盘固定相连；

所述摩擦盘的底面积为所述反应容器底面积的1/2~3/4；所述摩擦盘、所述连接层、所述磁力构件至下而上依次设置，并且所述磁力转盘的重心位于所述摩擦盘；

所述磁力构件为多个辐射状排列的仅具有磁芯的磁力转子；所述连接层底面设有锁合件，所述摩擦盘顶部设有与所述锁合件相匹配的锁紧槽，所述连接层与所述摩擦盘通过所述锁合件和所述锁紧槽实现可拆卸相连。

3.根据权利要求1或2所述的采用磁力转盘对反应容器中的半导体粉料进行摩擦催化的方法，其特征在于：

其中，所述摩擦盘采用特氟龙、PVC或PDMS制成。

4.根据权利要求1或2所述的采用磁力转盘对反应容器中的半导体粉料进行摩擦催化的方法，其特征在于，还包括：

防水封装层，包裹封装所述磁力构件，

其中，所述连接层连接所述防水封装层与所述摩擦盘。

5.根据权利要求4所述的采用磁力转盘对反应容器中的半导体粉料进行摩擦催化的方法，其特征在于：

其中，所述防水封装层采用AB胶制成。

6.根据权利要求4所述的采用磁力转盘对反应容器中的半导体粉料进行摩擦催化的方法，其特征在于：

其中，所述防水封装层为透明结构。