[发明专利]一种点阵光谱测量装置、面阵色度测量装置及方法在审
申请号: | 202011406455.5 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN112197863A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 冯晓帆;罗时文;郑增强;洪志坤 | 申请(专利权)人: | 武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G01J3/46 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 张凯 |
地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 点阵 光谱 测量 装置 色度 方法 | ||
1.一种点阵光谱测量装置,其特征在于,所述装置包括:
物镜(1),其用于对目标进行成像;
点扫描组件(2),用于以二维点阵形式采集所述物镜(1)对目标的成像,得到二维点阵光,并将所述二维点阵光转换成一维点阵光后出射;
准直色散组件(3),其用于对所述一维点阵光进行准直处理、色散处理以及聚焦处理;
成像组件(4),其用于对经过准直处理、色散处理以及聚焦处理的一维点阵光成像,获得所述二维点阵光中各束光的光谱信息。
2.如权利要求1所述的点阵光谱测量装置,其特征在于,所述点扫描组件(2)包括:
多根光导部件(20);
多根所述光导部件(20)的一端以二维点阵形式排列,用于采集所述物镜(1)对目标的成像,得到所述二维点阵光;
多根所述光导部件(20)的另一端呈直线排列,以将所述二维点阵光转换为一维点阵光出射;其中,
多根所述光导部件(20)以二维点阵形式排列的一端位于所述物镜(1)的像平面。
3.如权利要求1所述的点阵光谱测量装置,其特征在于,所述点扫描组件(2)包括:
多个以二维点阵形式排列第一光纤头(21),用于采集所述物镜(1)对目标的成像,得到所述二维点阵光;
光耦合器(22),所述光耦合器(22)上设有多个一维排列的第二光纤头(23),且所述第一光纤头(21)通过光纤与相应的所述第二光纤头(23)连接,以将所述二维点阵光转换成一维点阵光后出射;其中,
各所述第一光纤头(21)位于所述物镜(1)的像平面。
4.如权利要求3所述的点阵光谱测量装置,其特征在于:
各所述第一光纤头(21)通过光纤与所述光耦合器(22)的一侧连接;
各所述第二光纤头(23)通过光纤与所述光耦合器(22)的另一侧连接。
5.如权利要求1所述的点阵光谱测量装置,其特征在于,所述准直色散组件(3)包括:
准直镜(30),其用于对所述一维点阵光进行准直处理;
色散部件(31),其用于对经过准直处理的一维点阵光进行色散处理;
聚焦镜(32),其用于对经过准直和色散处理的一维点阵光进行聚焦处理,从而使得经过准直和色散处理的一维点阵光在所述成像组件(4)上成像。
6.如权利要求5所述的点阵光谱测量装置,其特征在于,所述点扫描组件(2)的出射端位于所述准直镜(30)的物方焦平面。
7.如权利要求6所述的点阵光谱测量装置,其特征在于,所述装置还包括狭缝部件(5);
所述狭缝部件(5)位于所述准直镜(30)的物方焦平面上;
所述点扫描组件(2)的出射端靠近所述狭缝部件(5);
所述狭缝部件(5)的狭缝长度方向与所述点扫描组件(2)的出射端的排列方向平行。
8.一种点阵光谱测量方法,其特征在于,所述方法基于依次间隔设置的物镜(1)、点扫描组件(2)、准直色散组件(3)以及成像组件(4),所述方法包括以下步骤:
利用所述物镜(1)对目标进行成像;
利用所述点扫描组件(2)以二维点阵的形式采集所述物镜(1)对目标的成像,得到二维点阵光,并将所述二维点阵光转换成一维点阵光后出射;
利用所述准直色散组件(3)对所述一维点阵光进行准直处理、色散处理以及聚焦处理;
利用所述成像组件(4)对经过准直处理、色散处理以及聚焦处理的一维点阵光成像,获得所述二维点阵光中各束光的光谱信息。
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