[发明专利]一种雷达标定方法及装置在审

专利信息
申请号: 202011278363.3 申请日: 2020-11-16
公开(公告)号: CN112485767A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 张持岸;孙召平;温俊 申请(专利权)人: 北京敏视达雷达有限公司
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 100094 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 雷达 标定 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种雷达标定方法,其特征在于,所述方法包括:

确定当第一雷达与第二雷达的仰角均为目标仰角时所述第一雷达与所述第二雷达的扫描范围之间的相交线;

获取所述第一雷达的仰角为所述目标仰角时所述第一雷达在所述相交线上各目标参考点上的第一反射率;获取所述第二雷达的仰角为所述目标仰角时所述第二雷达在所述相交线上所述各目标参考点上的第二反射率;

根据所述各目标参考点上的所述第一反射率和所述第二反射率,确定所述第一雷达与所述第二雷达的定位方位偏差、以及所述第一雷达与所述第二雷达的回波强度偏差。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

获取目标时段内所述第一雷达的仰角为所述目标仰角时,所述第一雷达在其扫描范围内各第一参考点上的回波反射率;

针对每个所述第一参考点,计算所述第一参考点上的回波反射率的平均值,作为所述第一参考点对应的第一反射率;

获取所述目标时段内所述第二雷达的仰角为所述目标仰角时,所述第二雷达在其扫描范围内各第二参考点上的回波反射率;

针对每个所述第二参考点,计算所述第二参考点上的回波反射率的平均值,作为该第二参考点对应的第二反射率;

则所述获取所述第一雷达的仰角为目标仰角时所述第一雷达在所述相交线上各目标参考点上的第一反射率,包括:

在所述第一雷达的扫描范围内的各所述第一参考点中,查找所述各目标参考点;获取所述各目标参考点各自对应的第一反射率;

则所述获取所述第二雷达的仰角为所述目标仰角时所述第二雷达在所述相交线上所述各目标参考点上的第二反射率,包括:

在所述第二雷达的扫描范围内的各所述第二参考点中,查找所述各目标参考点;获取所述各目标参考点各自对应的第二反射率。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述各目标参考点上的所述第一反射率和所述第二反射率,确定所述第一雷达与所述第二雷达的定位方位偏差,包括:

控制所述第二雷达以预设步进角度在偏差范围内旋转;

每完成一次旋转,获取所述第二雷达的仰角为所述目标仰角时所述第二雷达在所述相交线上所述各目标参考点上的第二反射率,作为本次旋转的偏转角度对应的第二反射率集合;

根据所述偏差范围内各偏转角度各自对应的第二反射率集合和所述各目标参考点上的所述第一反射率,确定所述第一雷达与所述第二雷达的定位方位偏差。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据所述偏差范围内各偏转角度各自对应的第二反射率集合和所述各目标参考点上的所述第一反射率,确定所述第一雷达与所述第二雷达的定位方位偏差,包括:

针对每个所述偏转角度,计算所述偏转角度对应的第二反射率集合中的第二反射率与所述各目标参考点上的所述第一反射率的零阶互相关度,作为所述偏转角度对应的零阶互相关度;

将所对应的零阶互相关度最大的偏转角度,作为所述第一雷达与所述第二雷达的定位方位偏差。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述各目标参考点上的所述第一反射率和所述第二反射率,确定所述第一雷达与所述第二雷达的回波强度偏差,包括:

基于所述定位方位偏差调整所述第二雷达的方位;

待完成对于所述第二雷达的方位的调整后,获取所述第二雷达的仰角为所述目标仰角时所述第二雷达在所述相交线上所述各目标参考点上的第二反射率;

采用最小平方法计算所述各目标参考点上的所述第一反射率和所述第二反射率间的距离,得到所述第一雷达与所述第二雷达的回波强度偏差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京敏视达雷达有限公司,未经北京敏视达雷达有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011278363.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top