[发明专利]栅格在审
| 申请号： | 202011131978.3 | 申请日： | 2020-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN114464516A | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 杨威 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/26;G01N23/04 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 栅格 | ||
1.一种栅格，其特征在于，包括：
承载主体；
至少一个支撑柱，所述支撑柱位于所述承载主体上；
所述支撑柱具有用于支撑样品的顶面；
所述支撑柱内具有至少一个凹槽，所述凹槽自所述顶面指向所述承载主体方向延伸，且所述凹槽的槽壁与所述顶面连接。
2.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，所述顶面至少位于所述凹槽的两侧。
3.根据权利要求1或2所述的栅格，其特征在于，所述顶面环绕所述凹槽。
4.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，所述凹槽的顶部开口大于或等于所述凹槽的底部开口。
5.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，在垂直于所述支撑柱的延伸方向上，所述凹槽的顶部开口的宽度为1um-20um。
6.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，在自所述顶面指向所述承载主体方向，所述凹槽的深度为10um-100um。
7.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，位于不同所述支撑柱上的所述凹槽具有不同的容积。
8.根据权利要求7所述的栅格，其特征在于，位于不同所述支撑柱上的所述凹槽在垂直于所述支撑柱的延伸方向上的宽度不同。
9.根据权利要求7所述的栅格，其特征在于，位于不同所述支撑柱上的所述凹槽在自所述顶面指向所述承载主体方向上的深度不同。
10.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，每一所述支撑柱具有多个间隔排列的所述凹槽，且相邻所述凹槽之间的距离为5um-10um。
11.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，每一所述支撑柱上具有一个所述凹槽，且所述凹槽的中心轴线与所述支撑柱的中心轴线重合。
12.根据权利要求1所述的栅格，其特征在于，所述支撑柱的所述顶面包括平面或弧面。
13.根据权利要求1所述栅格，其特征在于，所述支撑柱的所述顶面包括多个第一顶面，且多个所述第一顶面构成阶梯面；所述凹槽包括：多个第一凹槽，每一所述第一凹槽与每一所述第一顶面相对应，且每一所述凹槽的槽壁与对应所述第一顶面连接。
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