[发明专利]具有旋转微波等离子体源的工件处理腔室

权利要求书

1.一种用于处理工件的反应器，包括：

腔室，所述腔室包括微波透射窗口；

可旋转微波辐射器，所述可旋转微波辐射器覆在所述微波透射窗口的上面并且由所述窗口与所述腔室流体分隔，所述可旋转微波辐射器包括定位在所述窗口上方的可旋转圆柱形中空导电外壳、开口阵列和微波输入端口，所述可旋转圆柱形中空导电外壳具有顶部、侧壁以及底部底，所述开口阵列位于所述底部底中；

旋转微波波导耦合件，所述旋转微波波导耦合件包括：

(A)静止构件，所述静止构件相对于所述腔室固定，并且包括微波功率接收端口；以及

(B)可旋转构件；

第一微波波导，所述第一微波波导耦接在所述微波功率接收端口和微波发生器之间；

第二微波波导，所述第二微波波导具有耦接至所述可旋转微波辐射器的所述微波输入端口的一端，以及耦接至所述可旋转构件的相对端；以及

旋转致动器，所述旋转致动器耦接至所述可旋转构件，藉此在施加微波功率期间或与施加所述微波功率同时，所述可旋转微波辐射器通过所述旋转致动器是可持续旋转的。

2.如权利要求1所述的反应器，其中：

所述旋转致动器包括电机和可旋转驱动齿轮，所述可旋转驱动齿轮耦接至所述电机；

所述可旋转构件包括从动齿轮，所述从动齿轮紧固至所述可旋转构件并与所述可旋转驱动齿轮啮合。

3.如权利要求2所述的反应器，其中所述可旋转驱动齿轮在静止位置处且是可绕径向轴旋转的，且所述从动齿轮在相对于所述可旋转构件固定的位置处。

4.如权利要求1所述的反应器，其中所述第二微波波导包括轴向波导，所述轴向波导连接于所述可旋转微波辐射器的所述微波输入端口与所述可旋转构件之间。

5.如权利要求4所述的反应器，其中所述第二微波波导与所述可旋转圆柱形中空导电外壳的对称轴同轴。

6.如权利要求1所述的反应器，进一步包括微波产生器及柔性波导导管，所述柔性波导导管连接于所述微波产生器与所述静止构件的所述微波功率接收端口之间。

7.如权利要求1所述的反应器，其中在所述可旋转微波辐射器的所述底部底中的所述开口阵列具有对应于微波波长的函数的周期性间隔。

8.如权利要求7所述的反应器，其中所述可旋转微波辐射器具有辐射图案，所述辐射图案具有对应于所述周期性间隔的周期性不均匀度，所述周期性不均匀度通过所述可旋转微波辐射器的旋转而平均掉。

9.如权利要求1所述的反应器，包括用于冷却剂的流动的穿过所述窗口的通道。

10.如权利要求9所述的反应器，其中所述窗口被提供为由所述通道所分隔的一对窗口层。