[发明专利]光学基板上贵金属膜层的加工方法在审
| 申请号： | 202011069648.6 | 申请日： | 2020-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN111935914A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 吴岳;邢刚;陈银培 | 申请（专利权）人： | 浙江嘉美光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/12 | 分类号： | H05K3/12;B41M1/12;B41M1/26;B41M7/00 |
| 代理公司： | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人： | 张德宝 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 基板上 贵金属 加工 方法 | ||
1.一种光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、在光学基板上做定位标记；
S2、将网版与所述光学基板定位后，将贵金属浆液丝网印刷于所述光学基板上形成贵金属膜层；
S3、高温使所述贵金属膜层固化。
2.根据权利要求1所述的光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，所述光学基板为石英基板或者水晶基板。
3.根据权利要求1所述的光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，所述步骤S3中，所述贵金属膜层的固化温度为650℃~850℃。
4.根据权利要求3所述的光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，所述步骤S3具体包括：
将表面形成有所述贵金属膜层的所述光学基板放置在焊接炉中，将所述焊接炉中的温度以60℃/min~100℃/min的速率升温至所述固化温度，固化30min~40min后，以60℃/min~100℃/min的速率降低至常温，完成所述贵金属膜层的固化。
5.根据权利要求1所述的光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，所述步骤S2中采用CCD光学对位的方法将丝网印刷用的所述网版与所述光学基板进行定位。
6.根据权利要求1~5任意一项所述的光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，在所述步骤S3之后，所述贵金属膜层的加工方法还包括以下步骤：
在所述光学基板的表面涂胶；
对所述光学基板上的多余的贵金属膜层区域以及非贵金属膜层区域进行光刻、显影；
蚀刻去除多余的贵金属膜层；
将所述光学基板进行脱胶处理。
7.根据权利要求6所述的光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，所述贵金属膜层的尺寸精度小于或者等于20μm。
8.根据权利要求1~5任意一项所述的光学基板上贵金属膜层的加工方法，其特征在于，所述步骤S2中将所述贵金属浆液进行丝网印刷的环境温度为20℃~26℃。
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