[发明专利]衬底基板、衬底基板的制备方法和显示装置

说明书

本发明公开了一种衬底基板、衬底基板的制备方法和显示装置。至少部分衬底基板的蓝光透过率大于0且小于或等于60％，采用衬底基板形成显示装置后，在显示装置显示，显示装置内部的发光器件射出的光线通过衬底基板后在复合胶带的开孔区与空气界面发生漫反射时，反射的光线通过衬底基板时可以减少蓝光透过率，因此可以降低反射的光线对显示装置中晶体管特性的影响，进而降低了显示装置中不同区域的晶体管特性差异，在通过显示装置中的晶体管形成驱动电流驱动显示装置中的发光器件发光时，可以降低因显示装置中晶体管特性差异导致的显示装置显示亮度不均的现象，提高了显示装置的显示均一性。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种衬底基板、衬底基板的制备方法和显示装置。

背景技术

显示面板在显示过程中，显示面板中的晶体管器件的特性容易受到光线的影响发生变化，从而使得显示面板中晶体管特性不同，显示面板会出现显示亮度不均的现象。

发明内容

本发明提供一种衬底基板、衬底基板的制备方法和显示装置，以提高显示装置的显示均一性。

第一方面，本发明实施例提供了一种衬底基板，至少部分所述衬底基板的蓝光透过率大于0且小于或等于60％。

可选地，至少部分所述衬底基板的蓝光透过率大于或等于47％，且小于或等于57％。

可选地，至少部分所述衬底基板的白光透过率为70％-80％。

可选地，所述衬底基板包括聚酰亚胺膜层，至少部分所述聚酰亚胺膜层的蓝光透过率大于0且小于或等于60％；

优选地，至少部分所述聚酰亚胺膜层的蓝光透过率大于或等于47％，且小于或等于57％。

可选地，至少部分所述聚酰亚胺膜层反射的光线波长范围为550nm-650nm。

可选地，所述衬底基板的厚度为5-10微米；

优选地，所述衬底基板的厚度为8.5微米。

第二方面，本发明实施例还提供了一种衬底基板的制备方法，包括：

提供玻璃基板；

提供聚酰亚胺溶剂；

在氮气和氧气的气氛下蒸发所述聚酰亚胺溶剂形成聚酰亚胺气体，对所述聚酰亚胺气体亚胺化；

沉积所述聚酰亚胺气体在所述玻璃基板上形成至少部分聚酰亚胺膜层，使所述至少部分聚酰亚胺膜层的蓝光透过率大于0且小于或等于60％；

沉积未亚胺化的所述聚酰亚胺气体形成所述衬底基板；

去除所述玻璃基板。

可选地，在氮气和氧气的气氛下蒸发所述聚酰亚胺溶剂形成聚酰亚胺气体，对所述聚酰亚胺气体亚胺化，包括：

在蒸发所述聚酰亚胺溶剂形成聚酰亚胺气体时逐渐增加所述氮气含量，并逐渐减少所述氧气含量。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括权利要求1-6任一项权利要求所述的衬底基板和光感元件，对应所述光感元件位置处的所述衬底基板的蓝光透过率大于0且小于或等于60％。