[发明专利]一种烃氧化菌培养基、培养管及培养管制备方法在审
申请号: | 202011060309.1 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN114426932A | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 杨帆;许科伟;顾磊;汤玉平;宁丽荣;卢丽;李武 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院 |
主分类号: | C12N1/20 | 分类号: | C12N1/20;C12M1/24;C12M1/00 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建;朱明明 |
地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 培养基 培养 制备 方法 | ||
1.一种烃氧化菌培养基,其pH为6.8-7.2,其包含硝酸铵、氯化镁、硫酸亚铁、氯化钙、硫酸钾、磷酸钠、氯化钠、乙二胺四乙酸、微量元素化合物、碳源、刃天青和去离子水;其中,所述微量元素包含锰、锌、铜、硒和硼,所述碳源包含乙醇、正丙醇和正丁醇。
2.根据权利要求1所述的烃氧化菌培养基,其特征在于,以所述培养基的体积为基准,所述培养基的组分为:硝酸铵2.0g/L、氯化镁1.0g/L、硫酸亚铁0.2g/L、氯化钙0.3g/L、硫酸钾0.5g/L、磷酸钠1.0g/L、氯化钠2.0g/L、乙二胺四乙酸0.2g/L、微量元素化合物溶液5mL/L、乙醇2mL/L、正丙醇2mL/L、正丁醇2mL/L、刃天青溶液5mL/L以及余量的去离子水;
其中,以溶液体积为基准,所述微量元素化合物溶液的组分为:氯化锰0.5mg/L、氯化锌1.5mg/L、硫酸铜2.0mg/L、硒酸钠1.0mg/L、硼酸1.5mg/L以及余量的去离子水。
3.根据权利要求2所述的烃氧化菌培养基,其特征在于,所述刃天青溶液的浓度为0.1%。
4.一种烃氧化菌培养管,其特征在于,其包括如权利要求1至3任一项所述的培养基。
5.根据权利要求4所述的烃氧化菌培养管,其特征在于,还包括:
玻璃试管,其用于盛装所述培养基,所述玻璃试管的口部设置有外螺纹;
橡胶塞,其能够装配至所述培养管主体的口部;
旋盖,其内壁上设置有与所述外螺纹配合的内螺纹,所述旋盖的顶部还开设有开口。
6.根据权利要求5所述的烃氧化菌培养管,其特征在于,所述玻璃试管为高硼硅玻璃试管。
7.根据权利要求5或6所述的烃氧化菌培养管,其特征在于,所述橡胶塞为丁基橡胶塞。
8.根据权利要求5或6所述的烃氧化菌培养管,其特征在于,所述旋盖为聚丙烯螺旋盖。
9.一种烃氧化菌培养管的制备方法,其用应用于如权利要求5至8任一项所述的烃氧化菌培养管,其特征在于,所述制备方法包括:
步骤1:配制烃氧化菌培养基;
步骤2:将玻璃试管洗净并烘干,利用移液器将所述培养基移入所述玻璃试管内;
步骤3:将橡胶塞与旋盖装配至所述玻璃试管的口部;
步骤4:将培养管进行灭菌。
10.根据权利要求9所述的烃氧化菌培养管的制备方法,其特征在于,所述灭菌采用蒸汽灭菌锅,灭菌温度为121℃,灭菌时间为20分钟。
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