[发明专利]一种基于三联吡啶6位修饰超分子组装体的制备方法及应用

权利要求书

1.一种基于三联吡啶6位修饰超分子组装体，其特征在于：包括三联吡啶6位修饰的配体和金属离子，所述三联吡啶6位修饰的配体具有如下的分子结构通式：

其中，n＝1～100；

R₁为氢、卤素、烷基、被取代的烷基、烷氧基、炔基、取代和未取代的芳基和杂芳基、取代和未取代的稠环芳基和稠环杂芳基；

R₂为氢、卤素、烷基、被取代的烷基、胺、硝基、酰亚胺、羧酸酯、磺酰基、烷氧基、炔基、取代和未取代的芳基和杂芳基、取代和未取代的稠环芳基和稠环杂芳基或公知的供体和受体基团；

R₃为烷基、被取代的烷基、酰亚胺、炔基、取代和未取代的芳基和杂芳基、取代和未取代的稠环芳基和稠环杂芳基。

2.根据权利要求1所述的一种基于三联吡啶6位修饰超分子组装体，其特征在于：所述三联吡啶6位修饰的配体结构如下：

其中，R₁结构为

其中，R₄结构为：

其中：X＝F、Cl、Br、I；n为自然数；

R₂为氢、卤素、烷基、被取代的烷基、胺、硝基、酰亚胺、羧酸酯、磺酰基、烷氧基、炔基、取代和未取代的芳基和杂芳基、取代和未取代的稠环芳基和稠环杂芳基或公知的供体和受体基团。

3.根据权利要求1所述的一种基于三联吡啶6位修饰超分子组装体，其特征在于：所述三联吡啶6位修饰的配体结构如下：

其中，R₁结构为：

R₂为氢、卤素、烷基、被取代的烷基、胺、硝基、酰亚胺、羧酸酯、磺酰基、烷氧基、炔基、取代和未取代的芳基和杂芳基、取代和未取代的稠环芳基和稠环杂芳基或公知的供体和受体基团。

4.根据权利要求1所述的一种基于三联吡啶6位修饰超分子组装体，其特征在于：所述三联吡啶6位修饰的配体结构如下：

其中，R₁结构为：

R₂为氢、卤素、烷基、被取代的烷基、胺、硝基、酰亚胺、羧酸酯、磺酰基、烷氧基、炔基、取代和未取代的芳基和杂芳基、取代和未取代的稠环芳基和稠环杂芳基或公知的供体和受体基团。

5.根据权利要求1所述的一种基于三联吡啶6位修饰超分子组装体，其特征在于：所述三联吡啶6位修饰的配体结构如下：

其中，R₁结构为：

R₂为氢、卤素、烷基、被取代的烷基、胺、硝基、酰亚胺、羧酸酯、磺酰基、烷氧基、炔基、取代和未取代的芳基和杂芳基、取代和未取代的稠环芳基和稠环杂芳基或公知的供体和受体基团。

6.根据权利要求1～5任意一项所述的一种基于三联吡啶6位修饰超分子组装体，其特征在于：所述金属离子为Zn、Cd、Fe、Ru、Co、Pt、Pd、Mn、Ce、Mg、Ni、Os、Hg、Cu、Zr、Rh、Sn、Tl、Al、Pt、Pd、Ir、Sb、V、Ti、Hf、Au、Cr、Ag、In、Tb、Gd、Er、Yb、Lu、Dy、Nd、Eu、Pr、Ho、Tm、La、Sm任意一种金属的离子。