[发明专利]会聚离子束装置

说明书

提供如下的会聚离子束装置：能够针对会聚离子束的多个照射位置，分别自动且高精度地与共心高度对齐。会聚离子束装置具有电子束镜筒、会聚离子束镜筒、以及能够以倾斜轴为中心倾斜且能够沿高度方向移动的试样载台，其中，会聚离子束装置还具有：坐标取得单元，在试样上指定了照射会聚离子束的多个照射位置时，其取得各照射位置的平面坐标；移动量计算单元，其根据平面坐标，针对各照射位置计算使所述试样载台移动到共心高度以使所述共心高度与如下的交叉位置一致的移动量，所述交叉位置是电子束和会聚离子束一致的位置；以及试样载台移动控制单元，其针对各照射位置，根据移动量使试样载台移动到共心高度。

技术领域

本发明涉及具有电子束镜筒和会聚离子束镜筒的会聚离子束装置。

背景技术

以往，使用如下的FIB-SEM装置：针对扫描型电子显微镜(SEM)，进一步安装了对试样照射会聚离子束(FIB)而形成截面的会聚离子束镜筒。由此，从SEM对利用会聚离子束加工后的截面照射电子束，能够在一个装置内进行试样的截面加工、并在该装置内进行截面的观察或测定。

另外，在使用FIB装置通过载台驱动使试样倾斜来进行试样的特定位置的加工或观察的情况下，有时会由于倾斜动作而使特定位置从视野偏离。

因此，开发了如下的FIB装置：具有在共心高度配置试样的载台机构，使得不会因倾斜动作使特定位置从视野偏离(专利文献1)。

这里，“共心高度”是在试样载台上载置了试样的状态下、即使在观察时使试样倾斜、观察像上的特定位置也不会发生移动时的试样载台的高度。在FIB-SEM装置的情况下，对该载台的高度进行调整，以使会聚离子束和电子束的交叉位置与处于共心高度的载台上的试样位置(共心位置)一致。即，共心位置是在共心高度中加上了试样的厚度(在使用试样保持架的情况下还加上试样保持架的厚度)而得到的高度。

由此，即使一边进行倾斜动作一边进行试样的特定位置的FIB加工和SEM观察，在倾斜动作的前后，特定位置也不会从FIB和SEM的视野偏离。由此，能够高效地进行加工观察。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-72089号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，在利用会聚离子束对试样进行加工时，存在希望在试样表面的多个位置进行加工这样的期望，每当使试样载台移动到各位置时都要使试样载台的倾斜轴与共心高度对齐是烦杂的。

此外，有时会视作在最初的位置对齐的共心高度在其他位置也是不变的，并在这一前提下进行测定。但是，共心高度会由于试样的凹凸等而变化，因此，在使试样倾斜时，对象部位可能从视野偏离。

本发明正是为了解决上述课题而完成的，其目的在于，提供如下的会聚离子束装置：针对会聚离子束在试样上的多个照射位置中的各个照射位置，能够使它们自动且高精度地与共心高度对齐。

用于解决课题的手段

为了实现上述目的，本发明的会聚离子束装置具有：电子束镜筒，其用于对试样照射电子束；会聚离子束镜筒，其用于对所述试样照射会聚离子束；以及试样载台，其直接或间接地载置所述试样，能够以与所述电子束和所述会聚离子束正交的倾斜轴为中心倾斜，并且能够沿高度方向移动，其特征在于，所述会聚离子束装置还具有：坐标取得单元，在针对所述试样指定了照射所述会聚离子束的多个照射位置时，该坐标取得单元取得各照射位置的平面坐标；移动量计算单元，其根据所述平面坐标，针对所述各照射位置计算使所述试样载台移动到共心高度Zs以使所述共心高度Zs与如下的交叉位置一致的移动量，所述交叉位置是所述电子束和所述会聚离子束一致的位置；以及试样载台移动控制单元，其针对所述各照射位置，根据所述移动量使所述试样载台移动到共心高度Zs。