[发明专利]一种双向导电的功率半导体器件结构有效

专利信息
申请号: 202011013083.X 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN112151533B 公开(公告)日: 2023-03-17
发明(设计)人: 乔明;张发备;陈勇;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 双向 导电 功率 半导体器件 结构
【权利要求书】:

1.一种双向导电的功率半导体器件结构,其特征在于包括:

四个参数相同的功率二极管D1、D2、D3、D4以及一个功率MOSFET器件M1,且每个功率二极管反向击穿电压小于功率MOSFET器件M1或与功率MOSFET器件M1相等;功率二极管D1的阳极与功率二极管D4的阴极相连,构成电路的第一个输入/输出端口S1;功率二极管D1的阴极、功率二极管D2的阴极以及功率MOSFET器件M1的漏极三者相连;功率二极管D3的阳极、功率二极管D4的阳极以及功率MOSFET器件M1的源极三者相连;功率二极管D2的阳极与功率二极管D3的阴极相连,构成电路的第二个输入/输出端口S2;功率MOSFET器件M1的栅极构成电路的控制端G;

四个功率二极管D1、D2、D3、D4是开启电压低于0.7V的低开启电压恒流二极管;

所述低开启电压恒流二极管包括以下结构:第一导电类型衬底(01),位于第一导电类型衬底(01)之上的第二导电类型外延层(02),位于第二导电类型外延层(02)表面的第一导电类型阱区(03),位于第一导电类型阱区(03)中的第一导电类型阴极接触区(04)和第二导电类型阴极接触区(05),位于第二导电类型外延层(02)和第一导电类型阱区(03)上表面的第二导电类型沟道注入区(06),位于第二导电类型外延层(02)和第二导电类型沟道注入区(06)上表面的栅介质层(07),位于栅介质层(07)上方的栅极多晶硅(08),覆盖整个恒流二极管元胞表面的阴极金属接触(10),位于第一导电类型衬底(01)下表面的阳极金属接触(20)。

2.根据权利要求1所述的一种双向导电的功率半导体器件结构,其特征在于:

功率MOSFET器件是VDMOS器件或是LDMOS器件;是N沟道器件或是P沟道器件;是增强型MOSFET或是耗尽型MOSFET。

3.根据权利要求1所述的一种双向导电的功率半导体器件结构,其特征在于:

功率MOSFET器件替换为IGBT器件。

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