[发明专利]基板处理装置在审
申请号: | 202010959341.7 | 申请日: | 2020-09-14 |
公开(公告)号: | CN112509955A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 菊本宪幸;内田雄三;河原启之 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 金辉;崔炳哲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
本发明提供一种对基板进行清洗处理的基板处理装置,处理部的上部和下部分别具有多个处理单元。处理部具备至少一个塔单元,所述塔单元中,所述上部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元,所述下部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元。搬运部在所述上部和所述下部分别具有中心机器人。
技术领域
本发明涉及一种对半导体晶片、液晶显示器或有机EL(Electroluminescence:场致发光)显示装置用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板(以下,仅称作基板)进行正面清洗、反面清洗等清洗处理的基板处理装置。
背景技术
以往,作为这种装置存在具有分度器部、处理部、反转路径部的装置。例如,参考日本特开2014-72490号公报(图2)。
分度器部具有容纳架承载部和分度机械手。处理部具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元。容纳架承载部对容置了多张基板的容纳架进行承载。分度机械手在容纳架与反转路径部之间搬运基板。反转路径部具有反转路径单元。反转路径单元具有承载基板的多层搁板,并与处理部之间交接基板或使基板的正面和反面反转。
从分度器部观察,处理部的左侧具有两台反面清洗单元。处理部的两台反面清洗单元的上方具有两台正面清洗单元。也就是说,从分度器部观察,处理部的左侧具有四层结构的第一处理部列。从分度器部观察,处理部的右侧具有两台反面清洗单元。处理部的两台反面清洗单元的上方具有两台正面清洗单元。也就是说,从分度器部观察,处理部的右侧具有四层结构的第二处理部列。处理部具有一台主机器人,所述主机器人在正面清洗单元及反面清洗单元与反转路径单元之间搬运基板。
在该装置中,处理部只设置了一台主机器人。但是,近来,为了提高生产能力,存在具有如下结构的装置,即,处理部的上部的两层处理单元具有一台主机器人,处理部的下部的两层处理单元具有一台主机器人。换言之,处理部具有两台主机器人。例如,参考日本特开2016-201526号公报(图10)。
但是,具有这样的结构的现有装置存在下述问题。
即,如果现有装置的上部或下部的一方的主机器人发生故障,或者,上部或下部的处理单元全部发生故障,则只能进行正面清洗或反面清洗中的一者。因此,存在这样的问题,即,如果发生上述这样的故障,则现有装置无法进行完整的正反面清洗处理。
发明内容
本发明是鉴于这样的情况而提出的,其目的在于提供一种基板处理装置,其采用能够提高生产能力的结构,并且,即使在上部或下部的结构中任一方发生故障时,也能够进行完整的正反面清洗处理。
为达到这样的目的,本发明采用如下结构。
本发明是一种对基板进行清洗处理的基板处理装置,所述装置具有:分度器部,具有容纳架承载部和分度机械手,所述容纳架承载部对容置有多张基板的容纳架进行承载,所述分度机械手在与所述容纳架承载部的所述容纳架之间搬运基板;处理部,具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元,所述正面清洗单元执行基板的正面清洗处理,所述反面清洗单元执行基板的反面清洗处理;以及反转路径部,配置在所述分度器部与所述处理部之间,具有承载基板的多层搁板,并具有反转基板的正反面的反转功能。所述处理部具备至少一个塔单元,所述塔单元在上部和下部分别具有多个所述处理单元,所述上部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元,所述下部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元。所述基板处理装置具有搬运部,所述搬运部在所述上部和所述下部分别具有中心机器人,所述中心机器人在所述塔单元中的各个所述处理单元与所述反转路径部之间搬运基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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