[发明专利]一种半导体烘箱氮气调节装置

权利要求书

1.一种半导体烘箱氮气调节装置，包括底板(1)，其特征在于，所述底板(1)的顶部外壁设置有氮气瓶(2)、加热箱(4)和烘干箱，且加热箱(4)的一侧外壁设置有电子气泵(13)，电子气泵(13)的输入端和加热箱(4)的一侧内壁设置有同一个第三导辊(12)，所述氮气瓶(2)的输出端和加热箱(4)的顶部内壁设置有同一个第一导管(3)，且加热箱(4)的内壁两侧均设置有加热器(6)，所述烘干箱的内壁两侧均设置有喷气盘(21)，且喷气盘(21)的一侧外壁设置有等距离分布的喷头(19)，喷头(19)的倾斜角度各不相同，所述喷气盘(21)的一侧内壁设置有第二导管(10)，且第二导管(10)的另一端设置于电子气泵(13)的输出端，所述烘干箱的一侧内壁设置有第五导管(17)，且第五导管(17)的另一端通过三通管连接有两个规格相同的第四导管(14)，第四导管(14)的一侧外壁分别设置有第一电磁阀(15)和第二电磁阀(16)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述烘干箱的顶部内壁设置有温度传感器(18)，且烘干箱的一侧外壁设置有显示屏(20)，显示屏(20)的信号输入端通过信号线连接有处理器，温度传感器(18)的信号输出端和处理器的信号输入端通过信号线相连接。

3.根据权利要求2所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述烘干箱的底部内壁两侧均设置有风机(22)，且风机(22)均为倾斜结构。

4.根据权利要求3所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述烘干箱的内壁设置有等距离分布的透气放置板(23)，且透气放置板(23)的顶部外壁设置有大小规格不同的半导体放置槽(30)。

5.根据权利要求1所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述加热箱(4)的顶部外壁设置有电机(7)，且电机(7)的输出轴通过联轴器连接有转杆(8)，转杆(8)的外壁两侧均设置有不规则分布的横杆(11)，横杆(11)的另一端设置有第一搅拌杆(9)。

6.根据权利要求5所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述第一搅拌杆(9)为弧形结构，且第一搅拌杆(9)的一侧外壁设置有连接板(5)。

7.根据权利要求6所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述连接板(5)为折线形结构，且连接板(5)的一侧外壁开设有等距离分布的大小不同的过滤孔(29)。

8.根据权利要求7所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述横杆(11)的一侧外壁设置有连接杆(27)，且连接杆(27)的一侧外壁设置有大小规格相互交错分布的搅拌块(26)，连接杆(27)的另一侧外壁设置有Y形搅拌杆(28)。

9.根据权利要求8所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，所述横杆(11)的一侧外壁设置有搅拌环(24)，且横杆(11)的一侧外壁设置有开口方向相反的弧形杆(25)，搅拌环(24)为三角形的环状结构。

10.根据权利要求1-9任一所述的一种半导体烘箱氮气调节装置，其特征在于，还包括设置于烘干箱一侧内壁的阻流箱(33)，所述阻流箱(33)的顶部外壁和底部外壁分别开设有等距离分布的出气口(32)和进气口(31)，且阻流箱(33)的内壁设置有等距离分布的阻流通道(34)，阻流通道(34)为折线形结构。