[发明专利]一种高纯度、低成本二硅化钼的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010761208.0 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN111847458B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 张洪涛 申请(专利权)人: 辽宁中色新材科技有限公司
主分类号: C01B33/06 分类号: C01B33/06
代理公司: 锦州辽西专利事务所(普通合伙) 21225 代理人: 王佳佳
地址: 121000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 纯度 低成本 二硅化钼 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高纯度、低成本二硅化钼的制备方法,其特征是:

具体步骤如下:

(1)将原料三氧化钼、二氧化硅和高纯石墨粉按照摩尔比1:2:7配料,加入占三氧化钼、二氧化硅和高纯石墨粉总质量1%的工业干粉成型剂,在250升V型混料器中混料,所述三氧化钼粒度为325目,二氧化硅粒度为400目,高纯石墨粒度为325目,混料6个小时以上,获得混合物料;

(2)将步骤(1)获得的混合物料按照1公斤每份,放入500吨油压机压制,压制压力30MPa,每次压制一块,保证致密结合不松散,压制密度≥3.2g/cm3,获得压制块料;

(3)将压制块料用500公斤真空无压烧结炉真空烧结,整个真空烧结过程持续抽真空,每次装料量200公斤;

①第一次升温

打开电源,送电抽空,同时炉体送电升温功率30Kw/h,真空无压烧结炉温度设定350℃,真空度到3Pa,温度到达350℃,保温1小时-2小时,真空度稳定在3Pa-8Pa之间,继续送电升温;

②第二次升温

真空无压烧结炉温度设定1620℃,持续送电升温功率50Kw/h,1400℃开始炉内真空度变动在3Pa-200Pa之间,1620℃持续保温,当炉内真空度稳定在20-25Pa之间,继续送电升温;

③第三次升温

真空无压烧结炉温度设定1850℃,功率给到最高110Kw/h,持续升温,1850℃持续保温,真空度变动在20-300Pa之间,保温反应时间10小时-15小时,当炉内真空度降低到3-5Pa,调低真空无压烧结炉功率,降温;

④降温合金化反应

将真空无压烧结炉功率降至20Kw/h,温度降低1250℃,在1250℃下,真空度为3Pa-4Pa,保温5小时,停电降温,得到二硅化钼。

2.根据权利要求1所述的高纯度、低成本二硅化钼的制备方法,其特征是:三氧化钼纯度99.5%,二氧化硅纯度99.8%,高纯石墨纯度99.99%。

3.根据权利要求1所述的高纯度、低成本二硅化钼的制备方法,其特征是:V型混料器混料时,每次投料量为100公斤。

4.根据权利要求1所述的高纯度、低成本二硅化钼的制备方法,其特征是:所述工业干粉成型剂为羧甲基纤维素。

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