[发明专利]透明导电体的加工方法、加工装置及透明导电体和触控屏

说明书

本发明公开了一种透明导电体的加工方法，提供透明导电体，所述透明导电体包括透明基板和设于所述透明基板上的感光导电层，对所述透明导电体进行曝光处理，对经曝光处理后的透明导电体依次进行如下步骤，S1：将透明导电体完全浸泡于药水中；S2：对浸泡后的透明导电体进行清洗；S3：对清洗后的透明导电体进行吹干；通过药水浸泡的方式对透明导电体进行表面处理，降低了透明导电体制备过程中其表面过度显影或者过度蚀刻而导致显影或蚀刻不均匀的风险，利于产品良率的提升。

技术领域

本发明涉及触控屏技术领域，尤其涉及透明导电体的加工方法、加工装置及透明导电体和触控屏。

背景技术

为使显示面板具备触控功能，需要使其搭配触控屏。而小尺寸触控屏所使用的核心传感器材料一般为氧化铟锡(ITO)，大尺寸触控屏所使用的核心传感器材料一般为金属网格铜或者纳米银线，氧化铟锡(ITO)因其同时具备导电和透明的优势成为显示触控传感材料的首选。随着显示面板往大尺寸化和柔性化方向发展，ITO因其不可卷柔和相对较高的电阻不适用此领域，镂空的金属网格触控屏传感器应运而生。无论是ITO制程还是精密的金属网格制程，都是采用黄光工艺，其工艺流程大致分为压干膜、曝光、显影、蚀刻、脱膜。其中，显影、蚀刻、脱膜为制程环节，三者采用的技术流程都为喷淋药水、喷淋水洗、风刀吹干。在喷淋药水的环节，为了喷淋均匀，喷盘采用筛动模式，喷嘴间隔均匀。但即使如此，最终产品幅面的显影和蚀刻的效果依然不均匀，因为首先在筛动喷淋的过程中，产品随着滚轮前进，有部分幅面可以受到直接喷淋，剩下的幅面则是药水流动过去进而显影蚀刻，效果自然不一样；其次喷淋到幅面的药水都要从产品幅面的内部往边缘流，再流出幅面，所以幅面边缘接触药水时间长而幅面内部接触药水时间短，这就导致边缘容易过度显影或者过度蚀刻从而显影或蚀刻不均匀，影响产品良率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种生产良率高的透明导电体的加工方法、加工装置及透明导电体和触控屏。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案一为：一种透明导电体的加工方法，提供透明导电体，所述透明导电体包括透明基板和设于所述透明基板上的感光导电层，对所述透明导电体进行曝光处理，对经曝光处理后的透明导电体依次进行如下步骤

S1：将透明导电体完全浸泡于药水中；

S2：对浸泡后的透明导电体进行清洗；

S3：对清洗后的透明导电体进行吹干。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案二为：一种实施上述透明导电体的加工方法的透明导电体加工装置，包括

药水工艺槽，盛放用于对待加工的透明导电体进行浸泡的药水；

清洗工艺槽，盛放用于清洗经药水浸泡后的透明导电体的洗涤液；

夹持装置，用以夹持所述透明导电体，包括机械臂以及与所述机械臂连接的平移机构与升降机构；

风干机构，用于去除所述透明导电体表面的洗涤液。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案三为：一种透明导电体，采用上述透明导电体加工方法加工而成。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案四为：一种触控屏，包括采用上述透明导电体加工方法加工而成的透明导电体。

本发明的有益效果在于：本发明提供的透明导电体的加工方法、加工装置及透明导电体和触控屏生产良率高，通过药水浸泡的方式对透明导电体进行表面处理，降低了透明导电体制备过程中其表面过度显影或者过度蚀刻而导致显影或蚀刻不均匀的风险，利于产品良率的提升。

附图说明

图1为本发明实施例一的透明导电体的加工方法的流程图；

图2为本发明实施例一的透明导电体的加工装置的简化结构示意图；