[发明专利]静电保护电路有效

专利信息
申请号: 202010730995.2 申请日: 2020-07-27
公开(公告)号: CN112310067B 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 池田益英 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 静电 保护 电路
【权利要求书】:

1.一种静电保护电路,其特征在于,该静电保护电路与第1端子、第2端子以及连接端子电连接,降低浪涌电压对内部电路的影响,该第1端子被输入第1电压信号,该第2端子被输入电位比所述第1电压信号低的第2电压信号,该连接端子与外部电路连接,

该静电保护电路具有:

放电节点,其经由第1二极管元件而与所述第1端子电连接;

第1保护电路,其与所述第1端子和所述第2端子电连接;

第2保护电路,其与所述放电节点和所述连接端子电连接;以及

第3保护电路,其与所述放电节点和所述第2端子电连接,

所述第1二极管元件的阳极与所述第1端子电连接,阴极与所述放电节点电连接。

2.根据权利要求1所述的静电保护电路,其特征在于,

所述第2保护电路具有:

第2二极管元件,其阳极与所述连接端子电连接,阴极与所述放电节点电连接;

可控硅元件,其阳极与所述放电节点电连接,阴极与所述连接端子电连接;以及

触发元件,其与所述可控硅元件的栅极电连接,使所述可控硅元件进行动作,

所述可控硅元件包含:

第1杂质添加区域,其设置于衬底;以及

第2杂质添加区域,其设置于所述第1杂质添加区域,

所述可控硅元件的阳极设置于所述第1杂质添加区域,

所述可控硅元件的阴极设置于所述第2杂质添加区域。

3.根据权利要求1所述的静电保护电路,其特征在于,

所述第2保护电路具有:

第2二极管元件,其阳极与所述连接端子电连接,阴极与所述放电节点电连接;

可控硅元件,其阴极与所述连接端子电连接;

电压限制元件,其与所述可控硅元件的阳极电连接;以及

触发元件,其与所述可控硅元件的栅极电连接,使所述可控硅元件进行动作,

所述可控硅元件包含:

第1杂质添加区域,其设置于衬底;以及

第2杂质添加区域,其设置于所述第1杂质添加区域,

所述可控硅元件的阳极设置于所述第1杂质添加区域,

所述可控硅元件的阴极设置于所述第2杂质添加区域。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的静电保护电路,其特征在于,

该静电保护电路具有第1电阻元件,该第1电阻元件的一端与所述第1端子电连接,另一端与所述放电节点电连接。

5.根据权利要求1所述的静电保护电路,其特征在于,

该静电保护电路具有:

第2电阻元件,其一端与所述连接端子电连接,另一端与所述内部电路电连接;

第3二极管元件,其阳极与所述第2电阻元件的另一端电连接,阴极与所述第1端子电连接;以及

第4二极管元件,其阳极与所述第2端子电连接,阴极与所述第2电阻元件的另一端电连接。

6.根据权利要求1所述的静电保护电路,其中,

该静电保护电路具有:

第2电阻元件,其一端与所述连接端子电连接;

NMOS晶体管,其漏极与所述第2电阻元件的另一端电连接,源极与所述内部电路电连接,栅极与所述第1端子电连接;

第3二极管元件,其阳极与所述NMOS晶体管的源极电连接,阴极与所述第1端子电连接;以及

第4二极管元件,其阳极与所述第2端子电连接,阴极与所述第2电阻元件的另一端电连接。

7.根据权利要求1所述的静电保护电路,其特征在于,

该静电保护电路具有:

第2电阻元件,其一端与所述连接端子电连接;

PMOS晶体管,其漏极与所述第2电阻元件的另一端电连接,源极与所述内部电路电连接,栅极与所述第2端子电连接;

第3二极管元件,其阳极与所述PMOS晶体管的源极电连接,阴极与所述第1端子电连接;以及

第4二极管元件,其阳极与所述第2端子电连接,阴极与所述PMOS晶体管的源极电连接。

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