[发明专利]光罩缺陷检测方法及系统有效
申请号: | 202010717492.1 | 申请日: | 2020-07-23 |
公开(公告)号: | CN113970557B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | 侯力华;许文豪 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/94 | 分类号: | G01N21/94;G01N21/958 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 史治法 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缺陷 检测 方法 系统 | ||
1.一种光罩缺陷检测方法,其特征在于,包括:
提供光罩;
提供光罩缺陷检测系统,在所述光罩上机或下机时,持续对所述光罩进行缺陷检测,获取各缺陷的缺陷信息,所述缺陷包括颗粒灰尘,所述缺陷的缺陷信息包括所述缺陷的坐标信息和尺寸;
从各所述缺陷的缺陷信息中获取各所述缺陷的动态阈值;
判断各所述缺陷的动态阈值是否属于所述检测系统不可接受的阈值,若是,进行告警处理;
在进行检测之前,设定所述检测系统的静态阈值,当所述缺陷的缺陷信息达到所述静态阈值时,获取所述缺陷的历史缺陷信息;
根据所述缺陷的历史缺陷信息计算所述缺陷的量测误差范围;
根据所述静态阈值和所述量测误差范围计算所述检测系统不可接受的阈值;
所述量测误差范围为(,),各所述缺陷的动态阈值范围为(,);
其中,为达到所述静态阈值的所述缺陷的历史缺陷信息的平均绝对误差最大值,为达到所述静态阈值的所述缺陷的历史缺陷信息的平均绝对误差最小值,为所述缺陷的缺陷信息,所述平均绝对误差的计算对象为具有相同坐标信息但尺寸有偏差的所述缺陷;
所述检测系统不可接受的阈值为动态阈值,其范围为(,);
其中,为所述静态阈值。
2.如权利要求1所述的光罩缺陷检测方法,其特征在于,所述缺陷的历史缺陷信息为在选定时间段内收集到所述缺陷的缺陷信息。
3.如权利要求2所述的光罩缺陷检测方法,其特征在于,所述缺陷的历史缺陷信息为在持续的6~8小时内收集到所述缺陷的缺陷信息。
4.如权利要求1所述的光罩缺陷检测方法,其特征在于,所述缺陷的历史缺陷信息为未做清洗和/或保养处理时检测得到的数据。
5.如权利要求1所述的光罩缺陷检测方法,其特征在于,所述告警处理包括:发送告警信息,所述告警信息包括所述光罩的编码、达到所述静态阈值的缺陷的尺寸以及所述光罩对应的机台编码。
6.如权利要求1所述的光罩缺陷检测方法,其特征在于,在检测到所述缺陷的缺陷信息达到所述静态阈值时,向工作人员发送对所述光罩进行清洗和/或保养处理的通知信息。
7.如权利要求1所述的光罩缺陷检测方法,其特征在于,在进行光刻工艺的过程中,当曝光条件发生变化时,根据改变后的曝光条件对应设定新的静态阈值,以根据所述新的静态阈值重新计算得到所述检测系统不可接受的阈值。
8.一种光罩缺陷检测系统,其特征在于,包括:
获取模块,用于在所述光罩上机或下机时,持续对所述光罩进行缺陷检测,获取各缺陷的缺陷信息,所述缺陷包括颗粒灰尘,所述缺陷的缺陷信息包括所述缺陷的坐标信息和尺寸;
数据处理模块,与所述获取模块电连接,用于从各所述缺陷的缺陷信息中获取各所述缺陷的动态阈值;
告警模块,与所述数据处理模块电连接,用于判断各所述缺陷的动态阈值是否属于所述检测系统不可接受的阈值,并在判定所述缺陷的动态阈值属于所述检测系统不可接受的阈值时进行告警处理;
所述告警模块,还用于在进行检测之前,判断所述缺陷的缺陷信息是否达到设定的静态阈值;
所述获取模块,还用于当所述缺陷的缺陷信息达到所述静态阈值时,获取达到所述静态阈值的所述缺陷的历史缺陷信息;
所述数据处理模块,还用于根据达到所述静态阈值的所述缺陷的历史缺陷信息计算所述缺陷的量测误差范围,并根据所述静态阈值和所述量测误差范围计算所述检测系统不可接受的阈值;
所述量测误差范围为(,),各所述缺陷的动态阈值范围为(,);
其中,为达到所述静态阈值的所述缺陷的历史缺陷信息的平均绝对误差最大值,为达到所述静态阈值的所述缺陷的历史缺陷信息的平均绝对误差最小值,为所述缺陷的缺陷信息,所述平均绝对误差的计算对象为具有相同坐标信息但尺寸有偏差的所述缺陷;
所述检测系统不可接受的阈值为动态阈值,其范围为(,);
其中,为所述静态阈值。
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