[发明专利]研磨用固定环以及研磨头在审
申请号: | 202010695884.2 | 申请日: | 2020-07-17 |
公开(公告)号: | CN111644977A | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 康大沃;张月;杨涛;卢一泓;刘青 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司 |
主分类号: | B24B37/26 | 分类号: | B24B37/26;B24B37/34;B24B41/047 |
代理公司: | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人: | 陈晓瑜 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 固定 以及 | ||
1.一种研磨用固定环,其特征在于,包括:环形主体;
所述环形主体至少在下表面和内表面之间具有第一过渡区域,所述第一过渡区域的内侧高度高于所述第一过渡区域的外侧高度,所述第一过渡区域由所述内表面向所述下表面平滑过渡。
2.根据权利要求1所述研磨用固定环,其特征在于,所述环形主体进一步在所述下表面和外表面之间具有第二过渡区域,所述第二过渡区域的外侧高度高于所述第二过渡区域的内侧高度,所述第二过渡区域由所述外表面向所述内表面平滑过渡。
3.根据权利要求2所述研磨用固定环,其特征在于,所述第一过渡区域为与所述下表面和所述内表面相接的圆角,所述第二过渡区域为与所述下表面和外表面相接的圆角。
4.根据权利要求3所述研磨用固定环,其特征在于,所述第一过渡区域的圆角半径与所述底面宽度之比为1:99~99:1;或者,
所述第一过渡区域和所述第二过渡区域的圆角半径之和与所述底面宽度之比为1:99~99:1。
5.根据权利要求1所述研磨用固定环,其特征在于,所述环形主体的内径与外径之差为1cm~10cm。
6.根据权利要求2-4任意一项所述研磨用固定环,其特征在于,所述环形主体采用层叠设置的复合材料制成,其中,所述第一过渡区域设置在与研磨垫接触的一层材质上。
7.根据权利要求6所述研磨用固定环,其特征在于,所述复合材料为聚醚醚酮和不锈钢的复合材料;或者,
所述复合材料为聚苯硫醚和不锈钢的复合材料。
8.一种研磨头,其特征在于,包括:
承载结构;
设置在承载结构下表面并与所述承载结构连接的竖向驱动机构;以及,
如权利要求1-7任意一项所述研磨用固定环;所述研磨用固定环环绕所述竖向驱动机构设置并与所述承载结构连接。
9.如权利要求8所述研磨头,其特征在于:所述竖向驱动机构用于驱动待研磨件在竖直方向上运动,以使所述晶圆下表面与所述固定环的下表面形成台阶。
10.如权利要求8所述研磨头,其特征在于:所述研磨用固定环的第一过渡区域与所述待研磨件的边缘间隔设置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司,未经中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010695884.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种集成式直排生活污水处理装置
- 下一篇:一种高效除汞装置