[发明专利]一种连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备及方法

权利要求书

1.一种连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，包括：镀膜腔室、送样保温腔室、送样装置，所述镀膜腔室与送样保温腔室之间通过插板阀连接，所述镀膜腔室中设有热丝加热系统；所述热丝加热系统的下方设有水冷系统；其特征在于：所述送样保温腔室设置在所述镀膜腔室的两侧；所述送样装置通过送样保温腔室向镀膜腔室送入样品，两侧交替进行，连续镀膜。

2.根据权利要求1所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述的热丝加热系统由多个热丝单元组成，每个热丝单元包括一根热丝，所述热丝连接独立电源。

3.根据权利要求2所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述的热丝单元均匀排布在热丝架上，所述热丝架上设有若干导电环，每组导电环分别连接独立电源的正负极；所述热丝的两端绕过正负极的导电环，通过弹簧拉紧。

4.根据权利要求2所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述的水冷系统包括水冷盘，所述水冷盘由若干平行设置的水冷单元组成；所述水冷单元的水流方向与所述热丝的电流方向垂直。

5.根据权利要求4所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述水冷单元上设有流量截止阀，通过所述的流量截止阀控制所述水冷单元内水流量。

6.根据权利要求4所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述水冷盘的下方设有升降机构，所述升降机构带动所述的水冷盘上下移动。

7.根据权利要求1所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述的送样装置包括样品盘，所述样品盘由盘体和加热丝组成，所述加热丝迂回排布在所述盘体内，其两端分别连接正、负极导线；所述加热丝的排布间距从中间向两侧逐渐密集。

8.根据权利要求7所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述的送样装置还包括送样杆，所述送样杆的一端与所述样品盘插接连接；送样杆与所述样品盘的接头端设有正、负连接电极。

9.根据权利要求8所述的连续均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述的送样装置还包括设置在所述送样保温腔室和所述镀膜腔室内的传送架，所述传送架上设有滑动装置，所述样品盘在所述送样杆的推拉下借助所述滑动装置进出镀膜腔室。

10.一种连续均匀镀膜热丝化学气相沉积方法，其特征在于，包括：

（1）关闭镀膜腔室两侧的插板阀，接通电源，等待热丝碳化；

（2）调节每个热丝加热单元的电流大小，使电流由中间单元向两侧单元均匀递增；

（3）打开一侧插板阀，将待镀膜样品放在样品盘上；

（4）使用送样杆将样品盘推至水冷盘中间位置，抽出送样杆，关闭插板阀；

（5）水冷盘升高至距离热丝下方10mm处，调节每个水冷单元的截止阀，使得水冷盘中间处的冷水流速向两侧递减，调整工艺参数，开始沉积镀膜；

（6）镀膜后期，水冷盘下降，打开插板阀，送样杆与送样盘连接，同时样品盘接通电源加热，将样品盘拉出至送样保温腔室内静置降温；

（7）打开另一侧插板阀，通过另一侧的送样保温腔室将待镀膜样品送入镀膜腔室，重复步骤（4）-（6）进行另一个样品的镀膜；

（8）将降温后的镀膜样品取出，放置新的待镀膜样品，依次循环，两侧的送样保温腔室交替进行，连续镀膜。