[发明专利]一种可以双色阴影的提花组合丝绒及其织造方法

说明书

本发明公开了一种可以双色阴影的提花组合丝绒，由上层一面服饰面料、一面双色阴影丝绒、一中层双面双色阴影丝绒、一下层一面服饰面料、一面双色阴影丝绒联合组合而成；本发明还公开了一种可以双色阴影的提花组合丝绒的织造方法；本发明的有益效果是：通过对经纱的控制，掌握了织造的技巧，使丝绒产生阴影并形成大提花；利用了丝绒和服饰面料同时织造，使服饰面料一面具备了绒毛，增加了服饰面料的保暖性，增加了丝绒绒背的观赏性。

技术领域

本发明属于纺织技术领域，具体涉及一种可以双色阴影的提花组合丝绒还涉及一种该丝绒的织造方法。

背景技术

申请号为CN201610292992.9公开了一种素色阴影双面提花丝绒及其织造方法，采用素色阴影双面提花丝绒由双层丝绒基布织物从中间剖割开，通过拉纬在基布两侧形成绒面，经后整理而成，双层丝绒基布织物是由上层基布经纱、上层基布纬纱、上层辅助纬纱、下层基布经纱、下层基布纬纱、下层辅助纬纱同时与两根绒经纱进行双面丝绒组织织造而成。

为了增加服饰面料的保暖性，以及增加丝绒绒背的观赏性，为此我们提出一种可以双色阴影的提花组合丝绒及其织造方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可以双色阴影的提花组合丝绒及其织造方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种可以双色阴影的提花组合丝绒，由上层一面服饰面料、一面双色阴影丝绒、一中层双面双色阴影丝绒、一下层一面服饰面料、一面双色阴影丝绒联合组合而成。

作为本发明的一种优选的技术方案，由上层服饰面料及上层基布和中层基布以及下层服饰面料及下层基布在同时织造时，被一种带有颜色的线分别把上层、中层、下层连接起来。

作为本发明的一种优选的技术方案，上层服饰面料和上层基布由上层服饰面料经纱、上层服饰面料纬纱、上层基布经纱、上层基布纬纱组成；所述中层基布由中层基布经纱、中层基布纬纱组成；下层服饰服饰和下次基布由下次服饰面料经纱、下层服饰面料纬纱、下次基布经纱、下层基布纬纱组成。

作为本发明的一种优选的技术方案，所述上层服饰面料经纱由上层服饰面料第一经纱、上层服饰面料第二经纱组成；所述上层基布经纱由上层基布第一经纱、上层基布第二经纱组成；所述中层基布经纱由中层基布第一经纱、中层基布第二经纱组成；所述下层服饰面料经纱由下层服饰面料第一经纱、下层服饰面料第二经纱组成。

作为本发明的一种优选的技术方案，所述上层服饰面料纬纱由上层服饰面料第一纬纱、上层服饰面料第二纬纱组成；所述上层基布纬纱由上层基布第一纬纱、上层基布第二纬纱组成；所述中层基布纬纱由中层基布第一纬纱、中层基布第二纬纱组成；所述下层服饰面料纬纱由下层服饰面料第一纬纱、下层服饰面料第二纬纱组成。

作为本发明的一种优选的技术方案，所述上层基布第一经纱、中层基布第一经纱、下层基布第一经纱为紧经纱；所述上层基布第二经纱、中层基布第二经纱、下层基布第二经纱为松经纱。

本发明还公开了一种可以双色阴影的提花组合丝绒的织造方法，所述织造方法如下：

步骤一：将上层基布第一经纱、中层基布第一经纱、下层基布第一经纱按顺序排列整经整在一个经轴上；上层基布第二经纱、中层基布第二经纱、下层基布第二经纱按顺序排列整经整在一个经轴上；将上层服饰面料第一经纱、下层服饰面料第一经纱、上层服饰面料第二经纱、下层服饰面料第二经纱按顺序排列整经整在一个经轴上，作为上层服饰面料、下层服饰面料经纱轴；

步骤二：将上层服饰面料第一经纱、下层服饰面料第一经纱、上层基布第一经纱、中层基布第一经纱、下层基布第一经纱、上层基布第二经纱、中层基布第二经纱、下层基布第二经纱按顺序排列插入第一筘齿；将上层服饰面料第二经纱、下层服饰面料第二经纱、上层基布第二经纱、中层基布第二经纱、下层基布第二经纱、上层基布第二经纱、中层基布第二经纱、下层基布第二经纱按顺序排列插入第二筘齿；