[发明专利]一种超轻/超重非硅离型膜及其制备方法

权利要求书

1.一种超轻/超重非硅离型膜，其特征在于，包括基材层，涂布于所述基材层上的抗静电底涂层，以及涂布于所述抗静电底涂层上的非硅离型涂层；

所述非硅离型涂层是由按重量份计的如下组分制备而成的：酯类溶剂500-1000份、酮类溶剂50-500份、氨基改性的丙烯酸类树脂0-300份、含羟基丙烯酸树脂0-300份、固化剂5-50份，且氨基改性的丙烯酸类树脂和含羟基丙烯酸树脂的总量为300份；

所述氨基改性的丙烯酸类树脂的粘度为100-300CPS，分子量为3-6万；所述含羟基丙烯酸树脂的粘度为200-500CPS，分子量为4-7万。

2.根据权利要求1所述的一种超轻/超重非硅离型膜，其特征在于，所述基材层的材料为PET、BOPP或PE，厚度为25-188μm。

3.根据权利要求1所述的一种超轻/超重非硅离型膜，其特征在于，所述酯类溶剂选自乙酸乙酯、醋酸丁酯、乙酸异丁酯中的一种或多种，所述酮类溶剂选自丙酮、丁酮、甲基异丁酮中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的一种超轻/超重非硅离型膜，其特征在于，所述固化剂为甲苯二异氰酸酯和/或多苯基甲烷多异氰酸酯。

5.根据权利要求1所述的一种超轻/超重非硅离型膜，其特征在于，所述抗静电底涂层是由按重量份计的如下组分制备而成的：浓度为5％～8％的聚噻吩水溶液100份、固化剂10份。

6.根据权利要求1所述的一种超轻/超重非硅离型膜，其特征在于，所述抗静电底涂层的厚度为0.2-2um。

7.根据权利要求1所述的一种超轻/超重非硅离型膜，其特征在于，所述超轻/超重非硅离型膜对NITTO 31B胶带的离型力范围为5-800gf/inch，对TESA7475胶带的离型力范围为30-1000gf/inch。

8.根据权利要求1-7任一项所述的一种超轻/超重非硅离型膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在基材上涂布抗静电底涂液，经烘烤后，形成抗静电底涂层；

将500-1000份酯类溶剂、50-500份酮类溶剂、0-300份氨基改性的丙烯酸类树脂、0-300份含羟基丙烯酸树脂、5-50份固化剂配置成涂布液；

在抗静电底涂层上涂布所述涂布液，经烘烤后，形成非硅离型涂层；

将得到的半成品熟化，得非硅离型膜成品。

9.根据权利要求8所述的一种超轻/超重非硅离型膜的制备方法，其特征在于，所述抗静电底涂层采用微凹涂布、挤压涂布或网辊涂布的方式进行涂布，湿涂量为6-10g/m²，涂布后烘烤温度为80-120℃，烘烤时间为10-30秒。

10.根据权利要求8所述的一种超轻/超重非硅离型膜的制备方法，其特征在于，所述非硅离型涂层采用微凹涂布、挤压涂布或网辊涂布的方式进行涂布，湿涂量为6-10g/m²，涂布后烘烤温度为80-130℃，烘烤时间为30-60秒。