[发明专利]一种基于TiAl单晶EBSD样品的电解抛光液及其电解方法有效

专利信息
申请号: 202010434050.6 申请日: 2020-05-21
公开(公告)号: CN111621841B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 陈光;陈奉锐;祁志祥;逯帆;侯锐;肖随;许昊 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C25F3/26 分类号: C25F3/26;G01N23/20058;G01N23/203;G01N23/207
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 邹伟红
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 tial ebsd 样品 电解 抛光 及其 方法
【说明书】:

发明公开一种基于TiAl单晶EBSD样品的电解抛光液及其电解方法,属于TiAl合金表面处理技术领域。该电解抛光液由如下体积比的组分组成,高氯酸:丙三醇:无水乙醇=(12~15):(8~11):(100~104),电解方法为:将经过打磨处理的EBSD试样粗抛、细抛,超声清洗后作为阳极,不锈钢片为阴极,电解抛光液为电解液,进行电解。本发明的电解抛光方法,能有效去除TiAl单晶表面的应力层及氧化层,电解抛光后TiAl单晶表面平整且光亮清洁、无连续腐蚀坑,该方法具有工艺步骤简单易于操作,抛光液绿色环保,且效果稳定、样品标定率高等优点。

技术领域

本发明涉及一种基于TiAl单晶EBSD样品的电解抛光液及其电解方法,属于TiAl合金材料表面处理领域。

背景技术

电子背散射衍射(Electron Backscattered Diffraction, 简称 EBSD)技术是基于扫描电镜中电子束在倾斜样品表面激发出并形成的衍射菊池带的分析从而确定晶体结构、取向及相关信息的方法。EBSD要求试样表面无残留机械抛光造成的加工应变层,还要平滑、无氧化膜、无连续的腐蚀坑,因此普遍将电解抛光作为制备EBSD试样的最后一道加工工序。

TiAl合金是目前唯一能够在600℃以上氧化环境长期使用的轻质耐热结构材料,理论密度只有3.9 g/cm3,而Ni基高温合金约为8.5 g/cm3,用TiAl合金替代Ni基高温合金减重效益巨大。南京理工大学发明的TiAl单晶攻克了TiAl合金室温脆性大和服役温度低两大难题,实现了强度、塑性和蠕变抗力的优异结合与综合性能的跨越式提升,具有重大应用前景(ZL ZL201410529844.5,ZL201410528019.3)。TiAl单晶去除了晶界,铸造组织为全片层结构,其中α2-Ti3Al相为硬相,γ-TiAl相为软相,两者对抛光液的耐腐蚀性能差别大,采用常规的电解抛光液会造成表面产生连续腐蚀坑,使得样品的标定率低。此外,常规电解抛光液采用甲醇、正丁醇、冰醋酸、氢氟酸和醚类等易挥发、强刺激性且对人体有毒的化学溶剂作抛光液。基于以上原因迫切需要开发一种低毒、无刺激性绿色环保,且抛光工艺稳定性好,标定率高的电解抛光液及其电解方法。

发明内容

本发明的目的是提供一种基于TiAl单晶的EBSD样品的电解抛光液及其电解方法。

实现本发明目的技术解决方案是:一种基于TiAl单晶EBSD样品的电解抛光液,该电解抛光液由如下体积比的组分组成,高氯酸:丙三醇:无水乙醇=(12~15):(8~11):(100~104)。

一种基于TiAl单晶EBSD样品的电解方法,其步骤为:

(1)将经过打磨处理的EBSD试样先在绒布上粗抛,然后在合成纤维抛光布上细抛,用无水乙醇超声清洗10min;

(2)以不锈钢片为阴极、步骤(1)所得试样为阳极、电解抛光液为电解液进行电解,电解时,设置抛光时间为60-120s,电解电压为20-26V,阳极与阴极间距离为80mm,抛光温度为-30~150C。

较佳的,步骤(1)中,粗抛和细抛时采用的抛光液选用0.6 μm粒度的OP-S氧化硅悬浮液。

较佳的,电解过程使用电磁搅拌器进行搅拌。

与现有的技术相比,本发明具有以下有益效果:

(1)本发明关于TiAl单晶材料的电解抛光方法尚属首次。

(2)本发明中通过得到电解特征曲线得出电解抛光的理论分解电压的方法,提高电解抛光效率,得到的电解抛光工艺稳定性好,EBSD花样标定率高,大幅度提高检测精度。

(3)本发明的电解抛光液成本低廉,易于配制和存储,对人体无害。

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