[发明专利]显示基板、显示装置及其封装方法有效

专利信息
申请号: 202010382879.6 申请日: 2020-05-08
公开(公告)号: CN111584741B 公开(公告)日: 2022-12-23
发明(设计)人: 马昆松 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 吕姝娟
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 显示 显示装置 及其 封装 方法
【权利要求书】:

1.一种显示基板,具有一基板、设置于所述基板上的复数个发光器件,其特征在于,每一所述发光器件的边缘与所述基板的表面形成台阶,所述显示基板还包括:

一不连续有机层,所述不连续有机层的材料为具有流动性的亚克力系材料,所述不连续有机层被配置为暴露所述发光器件及部分所述基板,且部分所述不连续有机层围绕所述发光器件的边缘设置并位于所述台阶处;

一封装层,具有一第一无机层,所述第一无机层设置于所述不连续有机层上,并覆盖暴露的所述发光器件、暴露的部分所述基板及所述不连续有机层。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述不连续有机层的材料为丙烯酸树脂。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述封装层还包括:

至少一层缓冲层,所述缓冲层设置于所述第一无机层上;以及,

一第二无机层,所述第二无机层设置于所述缓冲层上,并覆盖所述第一无机层及所述缓冲层;

其中,所述缓冲层的材料为六甲基二甲硅醚。

4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲层包括一第一缓冲层和一第二缓冲层,其中,所述第一缓冲层的厚度为2μm~4μm,所述第二层缓冲层的厚度为1μm~4μm,并且,所述第二缓冲层的硬度大于所述第一缓冲层的硬度。

5.一种显示装置,包括如权利要求1~4中任一项所述的显示基板。

6.一种显示基板的封装方法,用于封装形成于一基板上的至少一发光器件,每一所述发光器件的边缘与所述基板的表面形成台阶,其特征在于,所述封装方法包括:

形成一不连续有机层的步骤,其中,所述不连续有机层被配置为暴露所述发光器件及部分所述基板,且部分所述不连续有机层围绕所述发光器件的边缘设置并位于所述台阶处,所述不连续有机层的材料为丙烯酸树脂;

在所述不连续有机层上形成一第一无机层的步骤,所述第一无机层覆盖暴露的所述发光器件、暴露的部分所述基板及所述不连续有机层;

在所述第一无机层上形成至少一缓冲层的步骤,其中,所述缓冲层包括依次形成的一第一缓冲层和一第二缓冲层,所述缓冲层的材料为六甲基二甲硅醚;

在所述缓冲层上形成一第二无机层的步骤,所述第二无机层覆盖所述第一无机层及所述缓冲层。

7.根据权利要求6所述的显示基板的封装方法,其特征在于,通过化学气相沉积法形成所述第一无机层和所述第二无机层,所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均为0.5μm~1μm。

8.根据权利要求6所述的显示基板的封装方法,其特征在于,通过原子层沉积法形成所述第一无机层和所述第二无机层,所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均为20nm~50nm。

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