[发明专利]一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器及其制备方法有效
| 申请号: | 202010360185.2 | 申请日: | 2020-04-30 |
| 公开(公告)号: | CN111509076B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
| 发明(设计)人: | 周长见;张首勇;吕喆 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
| 主分类号: | H01L31/11 | 分类号: | H01L31/11;H01L31/032;H01L31/0336;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京保识知识产权代理事务所(普通合伙) 11874 | 代理人: | 汪浩 |
| 地址: | 510641*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 具有 电流 驱动 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
1.一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器,其特征在于,包括衬底以及衬底上的二维半导体材料薄片、两个金属电极、隧穿层和俘获层,所述两个金属电极分别沉积在衬底两侧,所述隧穿层位于二维半导体异质结材料薄片顶部,所述俘获层位于隧穿层上方;所述的二维半导体材料薄片分别是过渡金属硫族化物WSe2和石墨烯,所述隧穿层材料为HfO2,所述俘获层材料为Si3N4。
2.根据权利要求1所述的一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器,其特征在于:所述金属电极采用50nmAu/10nmTi构成。
3.一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、二维材料的制备;
S2、在衬底上制备电极材料;
S3、异质结的构建;
S4、在异质结材料上制备隧穿层和俘获层;
S5、在制成的Graphene-WSe2-Au器件上根据需要制备钝化层保护二维材料的稳定性。
4.根据权利要求3所述的一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器的制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,二维材料通过机械剥离或者化学气相沉积的方法获得。
5.根据权利要求3所述的一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器的制备方法,其特征在于:所述步骤S2中,Au/Ti(50nm/10nm)电极通过电子束蒸镀的方法获得,沉积在硅衬底两侧,硅衬底是具有300nm SiO2氧化层的硅片。
6.根据权利要求3所述的一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器的制备方法,其特征在于:所述步骤S3中,将获得的WSe2薄片和石墨烯薄片通过先后两步确定性转移的方法转移到衬底上, 且石墨烯薄片的一侧压在WSe2薄片上,与WSe2之间构成范德华异质结,另一侧压在金电极上,是一种欧姆接触;WSe2薄片的另外一侧压在金属电极上,与金电极形成肖特基结, 从而构成Graphene-WSe2-Au结构的器件。
7.根据权利要求3所述的一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器的制备方法,其特征在于:所述步骤S4中,先采用原子层沉积技术(ALD)在WSe2与石墨烯异质结材料顶部沉积一层HfO2层,作为隧穿层,然后采用液体剥离方法制备Si3N4纳米片的分散液滴在HfO2顶部,并在室温下干燥24小时,形成一层俘获层。
8.根据权利要求3所述的一种具有低暗电流的自驱动型光电探测器的制备方法,其特征在于:所述步骤S5中,钝化层材料一般使用光刻胶和氮化硅等材料。
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