[发明专利]原子层沉积方法、装置及计算机可读存储介质

说明书

本发明公开了一种原子层沉积方法，原子层沉积装置包括沉积设备和卷料的输送装置，所述卷料的输送装置包括相邻设置的主辊筒和第一从辊筒，所述原子层沉积方法包括以下步骤：启动所述沉积设备开始运行；启动所述卷料输送装置工作，且在所述主辊筒转动时，获取第一从辊筒对应的卷料参数，其中，所述卷料参数包括卷料张力和/或卷料压力；在所述卷料参数超出预设参数范围内时，调节所述第一从辊筒对应的电机的转速。本发明还公开了一种原子层沉积装置及计算机可读存储介质，通过主辊筒转动时获取第一从辊筒对应的卷料参数，根据卷料参数的大小调节第一从辊筒对应的电机的转速，使得电机的转速更加合理，卷料表面的原子层沉积更加均匀。

技术领域

本发明涉及原子层沉积技术领域，尤其涉及原子层沉积方法、装置及计算机可读存储介质。

背景技术

原子层沉积工艺是在卷料的传送过程中，将物质以单原子膜形式一层一层的镀在卷料表面的方法。在此过程中，需要先将卷料展开到加工流水线上，即放卷过程。在原子层沉积结束后，再将展开的卷料再重新整理为卷状。

在放卷时，一般通过转动辊筒来推动卷料前进。辊筒的转速通常由操作人员手动设置，若设置的辊筒转速太快，卷料容易被扯断，若设置的辊筒转速太慢，卷料表面会有较多褶皱，使得卷料表面的原子层沉积不够均匀。

上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种原子层沉积方法、装置及计算机可读存储介质，旨在通过卷料参数的大小调节第一从辊筒对应的电机转速，使得卷料表面的原子层沉积更加均匀。

为实现上述目的，本发明提供一种原子层沉积方法，原子层沉积装置包括沉积设备和卷料的输送装置，所述卷料的输送装置包括相邻设置的主辊筒和第一从辊筒，所述原子层沉积方法包括以下步骤：

启动所述沉积设备开始运行；

启动所述卷料输送装置工作，且在所述主辊筒转动时，获取第一从辊筒对应的卷料参数，其中，所述卷料参数包括卷料张力和/或卷料压力；

在所述卷料参数超出预设参数范围内时，调节所述第一从辊筒对应的电机的转速。

可选地，所述获取第一从辊筒对应的卷料参数的步骤包括：

获取设置于所述主辊筒与所述第一从辊筒之间的张力传感器检测到的所述卷料张力；和/或

获取设置于所述第一从辊筒上的压力传感器检测到的所述卷料压力。

可选地，所述检测到所述卷料参数超出预设参数范围内时，调节所述第一从辊筒对应的电机的转速的步骤包括：

在所述卷料参数大于所述预设参数范围的最大值时，按照第一预设调整值减小所述第一从辊筒对应的电机的转速；

在所述卷料参数小于所述预设参数范围的最小值时，按照第二预设调整值增大所述第一从辊筒对应的电机的转速。

可选地，所述在所述主辊筒转动时，获取第一从辊筒对应的卷料参数的步骤之前，还包括：

在接收到转动指令时，获取所述转动指令中的转速值；

控制所述主辊筒对应的电机按照所述转速值转动，以带动所述主辊筒转动。

可选地，所述卷料的输送装置还包括第二从辊筒，所述第二从辊筒和所述主辊筒分别设置于第一从辊筒两侧，所述调节所述第一从辊筒对应的电机的转速的步骤之后，还包括：

在所述第一从辊筒转动时，获取所述第二从辊筒对应的卷料参数；

在所述第二从辊筒对应的卷料参数超出所述预设参数范围内时，调节所述第二从辊筒对应的电机的转速。