[发明专利]一种真空离子氮化设备在审

专利信息
申请号: 202010291422.4 申请日: 2020-04-14
公开(公告)号: CN113529010A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 朱喆;赵睿;杨丽琳;张彦峰;梁兰 申请(专利权)人: 深圳市和胜金属技术有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 任志龙
地址: 518000 广东省深圳市光*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 离子 氮化 设备
【说明书】:

发明涉及一种真空离子氮化设备,其包括:安装平台、氮化炉、支架、升降机构、平移机构以及控制部,氮化炉设置在安装平台上且设置有相邻的两个;支架活动设置在安装平台上且每个氮化炉处分别设置有一个;升降机构设置在支架上且每个支架上均设置有一个升降机构,升降机构用于升降氮化炉上的盖体;平移机构设置在安装平台上,平移机构也设置有两个且用于分别平移两个氮化炉上的盖体至控制部上方,控制部也设置在安装平台上且处于两个氮化炉之间,控制部可分别控制氮化炉上的盖体移动至自身的上方。本发明具有减少劳动力的浪费、提升氮化工作效率且加工成本较低的效果。

技术领域

本发明涉及氮化设备的技术领域,尤其是涉及一种真空离子氮化设备。

背景技术

真空离子氮化设备是在真空容器中使含氮稀薄气体在直流电场中电离,正离子轰击金 属零件表面形成氮化层,以达到表面硬化的设备。

现有的真空离子氮化设备包括盖体和放置架,盖体盖设在放置架上,放置架用于放置需要被氮化的金属件;在该设备工作时,首先需要使用起吊设备将盖体向上吊起,使得放置架完全露出,之后再将需要氮化处理的金属件放置在放置架上,最后再将盖体重新盖回到放置架处,使得盖体将放置架完全盖住,此时即可开始对对金属件的表面进行氮化处理。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷:该种真空离子氮化设备只有一个工位,在工作人员将金属件放置好之后,工作人员就处于闲置的状态,需要等待该真空离子氮化设备结束工作之后才可以将金属件取下、放上未被氮化的金属件,此种设计方式,造成了劳动力的闲置,金属件的氮化工作效率比较低下,而购买多台该种设备,则需要比较高的成本,故而有待改进。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的是提供一种真空离子氮化设备,其具有减少劳动力的浪费、提升氮化工作效率且加工成本较低的效果。

本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种真空离子氮化设备,包括:安装平台、氮化炉、支架、升降机构、平移机构以及控制部,氮化炉设置在安装平台上且设置有相邻的两个;支架活动设置在安装平台上且每个氮化炉处分别设置有一个;升降机构设置在支架上且每个支架上均设置有一个升降机构,升降机构用于升降氮化炉上的盖体;平移机构设置在安装平台上,平移机构也设置有两个且用于分别平移两个氮化炉上的盖体至控制部上方,控制部也设置在安装平台上且处于两个氮化炉之间,控制部可分别控制氮化炉上的盖体移动至自身的上方。

通过采用上述技术方案,安装平台的设置,为氮化炉、支架、升降机构、平移机构以及控制部提供了稳定的安装位置;氮化炉设置有两个,使得氮化工作在进行时,完全可以一个氮化炉处于工作状态,另外一个氮化炉处于放置金属件的状态,从而使得两个氮化炉可以交替进入工作状态,此时也就不易出现闲置劳动力的情况,减少了劳动力的浪费,大大提升了氮化工作的工作效率,并且因为两个两个氮化炉通过一个控制部进行控制,相比于直接购买两台氮化设备,此种方式更加节约成本;升降机构的设置,使得氮化炉可以向上升起,从而方便向炉内放置需要氮化的金属件;平移机构的设置,使得盖体可以被移动到控制部上方,此时盖体即使掉下也不易砸伤正在向放置架上放置金属件的工作人员,提升操作的安全性。

本发明在一较佳示例中可以进一步配置为,所述升降机构包括:滑块、连接组件以及第一驱动件,滑块竖向滑动设置在所述支架上;连接组件设置在所述盖体和滑块之间,连接组件用于连接盖体与滑块;第一驱动件固定设置在支架上且用于驱动滑块上下滑动。

通过采用上述技术方案,滑块与第一驱动件的设置,使得盖体可以被滑块带动实现升降的目的,而且相比于使用起吊设备从盖体的上端将盖体向上吊起,此种方式在升降盖体时,盖体不易发生晃动,会更加的稳定、更加的安全;连接组件的设置,将滑块与盖体连接起来,从而达到滑块上下移动时,盖体也能一起上下移动的目的。

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