[发明专利]一种真空离子氮化设备

权利要求书

1.一种真空离子氮化设备，其特征在于，包括：安装平台(1)、氮化炉(2)、支架(3)、升降机构(4)、平移机构(5)以及控制部(6)，氮化炉(2)设置在安装平台(1)上且设置有相邻的两个；支架(3)活动设置在安装平台(1)上且每个氮化炉(2)处分别设置有一个；升降机构(4)设置在支架(3)上且每个支架(3)上均设置有一个升降机构(4)，升降机构(4)用于升降氮化炉(2)上的盖体(21)；平移机构(5)设置在安装平台(1)上，平移机构(5)也设置有两个且用于分别平移两个氮化炉(2)上的盖体(21)至控制部(6)上方，控制部(6)也设置在安装平台(1)上且处于两个氮化炉(2)之间，控制部(6)可分别控制氮化炉(2)上的盖体(21)移动至自身的上方。

2.根据权利要求1所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述升降机构(4)包括：滑块(41)、连接组件(42)以及第一驱动件(43)，滑块(41)竖向滑动设置在所述支架(3)上；连接组件(42)设置在所述盖体(21)和滑块(41)之间，连接组件(42)用于连接盖体(21)与滑块(41)；第一驱动件(43)固定设置在支架(3)上且用于驱动滑块(41)上下滑动。

3.根据权利要求2所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述连接组件(42)包括连接钩(421)和连接架(422)，连接钩(421)固定设置在滑块(41)上，并且连接钩(421)的弯折内侧朝向上方；连接架(422)固定设置在所述盖体(21)的外侧表面上；连接钩(421)与连接架(422)勾连。

4.根据权利要求2所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述连接组件(42)处于所述盖体(21)外侧表面的上端；盖体(21)外侧表面的下端与滑块(41)之间还设置有用于盖体(21)上升时保持竖直状态的平衡组件(7)。

5.根据权利要求4所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述平衡组件(7)包括支撑件(71)和受力件(72)，支撑件(71)固定设置在所述滑块(41)的下端，受力件(72)固定设置在所述盖体(21)的外侧表面上；在滑块(41)上升时，支撑件(71)向上顶动受力件(72)。

6.根据权利要求2所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述支架(3)上还竖向固定设置有导向杆(3111)，导向杆(3111)穿过所述滑块(41)且与滑块(41)滑动连接。

7.根据权利要求1所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述平移机构(5)包括：滑轨(51)、齿条(52)、齿轮(53)以及第二驱动件(54)，滑轨(51)水平固定设置在所述安装平台(1)上；齿条(52)水平固定设置在滑轨(51)上；齿轮(53)设置在第二驱动件(54)上且被第二驱动件(54)驱动转动，齿轮(53)与齿条(52)啮合；第二驱动件(54)固定设置在所述支架(3)上。

8.根据权利要求1所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述控制部(6)上方设置有限位组件(8)，限位组件(8)用于限制所述盖体(21)水平移动。

9.根据权利要求8所述的真空离子氮化设备，其特征在于，所述限位组件(8)包括：支撑盘(81)、限位杆(82)以及复位弹簧(83)，支撑盘(81)活动设置在所述控制部(6)上表面处且用于承载所述盖体(21)；限位杆(82)竖向固定设置在控制部(6)上，并且限位杆(82)上端穿过支撑盘(81)且与支撑盘(81)滑动连接，限位杆(82)间隔设置有多根，在盖体(21)处于支撑盘(81)上时，盖体(21)下端处于多根限位杆(82)之间；复位弹簧(83)固定设置在支撑盘(81)与控制部(6)之间，复位弹簧(83)上端与支撑盘(81)下表面固定连接，复位弹簧(83)下端与控制部(6)上表面固定连接。

10.根据权利要求9所述的真空离子氮化设备，其特征在于，在复位弹簧(83)处于自然状态时，所述限位杆(82)上端端面处的高度高于所述支撑盘(81)上侧表面处的高度；限位杆(82)上端的端部处还转动设置有引导轮(821)，在盖体(21)与支撑盘(81)上侧表面抵接时，引导轮(821)轴侧表面与盖体(21)的外侧表面抵接。