[发明专利]锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法

权利要求书

1.一种锍化合物，以下式(A-2)表示；

式中，Q¹及Q²各自独立地为氟原子或碳数1～6的氟化烷基；

Q³及Q⁴各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化烷基；

a为1～4的整数；

b为1或2；

c为1；

d为0；

e为0或1；

f为0～2的整数；

L^a1和L^a2各自独立地为单键、醚键或酯键；

L^a3和L^a4为单键；

X^L1为单键；

X^L2为单键或者由下述式X^L-1～X^L-5中的任一个表示的基团，

式中，＊表示与L^a1及L^a2的键结，

R^a为氢原子、或亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；

R^b及R^c各自独立地为亦可含有杂原子的碳数2～40的烃基，且R^b与R^c彼此键结并和它们所键结的氧原子及它们之间的碳原子一起形成环、并且R^b与R^c和各自相邻的氧原子一起形成环状缩醛结构；

R^d为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基,

R^e及R^f各自独立地为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基。

2.根据权利要求1所述的锍化合物，以下式(A-3)表示；

式中，Q¹～Q³、L^a1～L^a4、X^L1、X^L2、R^a～R^f、a、b、d、e及f与前述相同。

3.根据权利要求1或2所述的锍化合物，其中，所述环状缩醛结构为由下述式中的任一个表示的基团，

式中，R^a与前述相同，虚线是与L^a3的共价键，

式中，R^a与前述相同，虚线是与L^a3的共价键。

4.一种锍化合物，其由下述式PAG-1～PAG-11中的任一个表示；

5.一种光酸产生剂，是由根据权利要求1至4中任一项所述的锍化合物构成的。

6.一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有：

根据权利要求5所述的光酸产生剂；及

含有下式(a1)或(a2)表示的重复单元的基础树脂；

式中，R^A各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；Z^A为单键、亚苯基、亚萘基或(主链)-C(＝O)-O-Z^A1-，Z^A1为亦可含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1～10的烷二基、或亚苯基或亚萘基；Z^B为单键或(主链)-C(＝O)-O-；X^A及X^B各自独立地为酸不稳定基团；R¹¹为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；n为0～4的整数。

7.根据权利要求6所述的化学增幅抗蚀剂组成物，其中，该基础树脂更含有下式(b1)或(b2)表示的重复单元；

式中，R^A各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；Y^A为氢原子、或含有选自羟基、氰基、羰基、羧基、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键、内酯环、磺内酯环及羧酸酐中的至少1个以上的结构的极性基团；m为1或2。