[发明专利]一种发端IQ不平衡参数的估计方法及装置有效

专利信息
申请号: 202010239225.8 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN111614586B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 吕毅;赵辉;张诚 申请(专利权)人: 北京瀚诺半导体科技有限公司
主分类号: H04L25/03 分类号: H04L25/03;H04L27/00
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 付婧
地址: 100081 北京市海*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 发端 iq 不平衡 参数 估计 方法 装置
【说明书】:

发明公开了一种发端IQ不平衡参数的估计方法及装置,所述方法包括:利用被测设备发射机发出扫频信号;对所述扫频信号进行采集,获取扫频接收信号;计算所述扫频接收信号中各扫频频点时域信号的实部和虚部相关值,所述相关值包括实部自相关值、虚部自相关值以及实部虚部互相关值;基于所述实部和虚部相关值进行计算,生成被测设备的发端IQ不平衡参数,所述发端IQ不平衡参数包括IQ延迟不平衡参数、IQ相位不平衡参数和IQ幅度不平衡参数。因此,采用本申请实施例,可以提高系统性能。

技术领域

本发明涉及数字通信领域,特别涉及一种发端IQ不平衡参数的估计方法及装置。

背景技术

采用零中频射频方案的数字通信系统在发端上变频的过程中,由于所用模拟器件的非理想性,会对系统引入IQ不平衡。造成IQ不平衡的主要因素有:I路和Q路信号通过的放大器等模拟器件的非对称性使得两路信号的延迟不同,由此造成IQ延迟不平衡;上变频时使用的I路和Q路混频信号不完全正交造成与频率不相关的IQ相位不平衡;I路和Q路信号通过各模拟器件的非对称性造成IQ幅度不平衡。

在现有的发端IQ不平衡参数估计方法中存在诸多局限性,诸如:不能估计IQ延迟不平衡,或无法同时估计上述的三种IQ不平衡参数;未考虑载波频率偏差对IQ不平衡估计的影响;估计方法复杂度高,对被测系统引入的资源开销大,不利于系统实现等。由于IQ不平衡对零中频系统影响很大,其会在系统中产生镜像干扰,使得信噪比降低,从而导致系统性能下降。

发明内容

本申请实施例提供了一种发端IQ不平衡参数的估计方法及装置。为了对披露的实施例的一些方面有一个基本的理解,下面给出了简单的概括。该概括部分不是泛泛评述,也不是要确定关键/重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围。其唯一目的是用简单的形式呈现一些概念,以此作为后面的详细说明的序言。

第一方面,本申请实施例提供了一种发端IQ不平衡参数的估计方法,所述方法包括:

利用被测设备发射机发出扫频信号;

对所述扫频信号进行采集,获取扫频接收信号;

计算所述扫频接收信号中各扫频频点时域信号的实部和虚部相关值,所述相关值包括实部自相关值、虚部自相关值以及实部虚部互相关值;

基于所述实部和虚部相关值进行计算,生成被测设备的发端IQ不平衡参数,所述发端IQ不平衡参数包括IQ延迟不平衡参数、IQ相位不平衡参数和IQ幅度不平衡参数。

可选的,所述扫频信号是指相位连续的一系列已知频率的单频信号。

可选的,对所述扫频信号进行采集的设备不存在收端IQ不平衡,或该设备收端IQ不平衡相对于被测设备的发端IQ不平衡可以忽略不计。

可选的,在计算所述相关值之前,还包括:

对所述扫频接收信号进行载波频率偏差估计,并根据估计结果对所述扫频接收信号进行载波频率偏差校准。

可选的,所述基于所述实部和虚部相关值进行计算,生成被测设备的发端IQ不平衡参数,包括:

基于所述实部自相关值、虚部自相关值以及实部虚部互相关值计算各扫频频点的幅度参数和相位参数;

对所述各扫频频点的幅度参数进行求平均值操作,生成所述IQ幅度不平衡参数;

对所述各扫频频点的相位参数进行直线拟合操作,生成直线斜率参数和截距参数,斜率参数为所述IQ延迟不平衡参数,截距参数为所述IQ相位不平衡参数。

可选的,所述各扫频频点的幅度参数的计算方法为:

方法1:或

方法2:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京瀚诺半导体科技有限公司,未经北京瀚诺半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010239225.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top