[发明专利]一种黑色膜层组件及其制备方法和电子设备

说明书

本申请提供了一种黑色膜层组件，包括基底以及设置在基底上的镀膜层，镀膜层包括交替层叠设置的金属层和无机化合物层，金属层为至少两层，无机化合物层为至少两层；基底具有相对设置的外表面和内表面，镀膜层设置在基底的外表面时，镀膜层远离基底一侧的最外层为无机化合物层，和/或镀膜层设置在基底的内表面时，镀膜层靠近基底一侧的最外层为无机化合物层，无机化合物层的折射率小于1.75，金属层的材质为铟、锡或铟锡合金。该黑色膜层组件的吸光率高，反射率和透过率极低，外观呈现真正的黑色，有利于其在电子设备中的应用。本申请还提供了黑色膜层组件的制备方法以及包括上述黑色膜层组件的电子设备。

技术领域

本申请涉及镀膜技术领域，特别涉及一种黑色膜层组件及其制备方法和电子设备。

背景技术

随着电子产品的发展，越来越多的电子产品呈现局部或整体一体黑的效果。相关技术中，往往进行镀膜来实现这一效果，但是目前制得的镀膜反射率和透过率较高，使得电子产品呈现灰黑色，无法实现真正的黑色。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种黑色膜层组件，该黑色膜层组件的吸光率高，反射率和透过率极低，外观呈现真正的黑色，有利于其在电子设备中的应用。

第一方面，本申请提供了一种黑色膜层组件，包括基底以及设置在所述基底上的镀膜层，所述镀膜层包括交替层叠设置的金属层和无机化合物层，所述金属层为至少两层，所述无机化合物层为至少两层；所述基底具有相对设置的外表面和内表面，所述镀膜层设置在所述基底的外表面时，所述镀膜层远离所述基底一侧的最外层为无机化合物层，和/或所述镀膜层设置在所述基底的内表面时，所述镀膜层靠近所述基底一侧的最外层为无机化合物层，所述无机化合物层的折射率小于1.75，所述金属层的材质为铟、锡或铟锡合金。

可选的，所述金属层的厚度小于或等于50nm，以使得金属层能较好的吸收光能，同时使得未吸收的光能可以最大程度的穿过金属层，避免过多的反射，进而降低反射率。

可选的，所述金属层为单层或多层堆叠结构，有利于提高黑色膜层组件的吸光率。

可选的，所述无机化合物层的折射率小于1.5，更进一步的改变光线在黑色膜层组件的反射率和透过率，同时配合金属层使用，提高黑色膜层组件的吸光率。进一步的，所述无机化合物层的材质包括二氧化硅和氟化镁中的至少一种。

可选的，所述无机化合物层的厚度为20nm-90nm，以降低黑色膜层组件的反射率和透过率。

在本申请中，所述镀膜层设置在所述基底的外表面时，所述镀膜层远离所述基底一侧的最外层为无机化合物层，和/或所述镀膜层设置在所述基底的内表面时，所述镀膜层靠近所述基底一侧的最外层为无机化合物层。通过该设置，提高黑色膜层组件的吸光率。

可选的，所述黑色膜层组件的反射率小于5％，透过率小于1％。进一步的，所述黑色膜层组件的反射率小于或等于2.5％。更进一步的，所述黑色膜层组件的反射率小于或等于2％。具体的，所述黑色膜层组件的反射率可以但不限于小于或等于1％、0.5％、0.1％、0.05％或0.01％。

可选的，所述无机化合物层为单层或多层堆叠结构，以通过不同层结构的设置方法改变黑色膜层组件的反射率和透过率。

可选的，所述基底的材质包括玻璃、陶瓷、蓝宝石和塑胶中的至少一种。

本申请第一方面提供的黑色膜层组件对光线的反射率和透过率极低，具有优异的吸光性能，在不同波长的光线下均呈现黑色，有利于其应用。

第二方面，本申请提供了一种黑色膜层组件的制备方法，包括：