[发明专利]防窥膜及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种防窥膜，其特征在于，包括：固化基材层及分布在所述固化基材层内的若干遮光片体；

所述遮光片体为片状结构；

若干所述遮光片体的厚度方向均与所述固化基材层的厚度方向垂直；

所述遮光片体的透光率小于所述固化基材层的透光率；

所述固化基材层包括平行的第一基材表面和第二基材表面；所述遮光片体包括相对布置的遮光面，所述遮光面垂直于所述遮光片体的厚度方向，所述遮光面的形状为矩形；

所述遮光片体的宽度方向与所述第一基材表面和所述第二基材表面垂直，所述遮光片体的长度方向与所述第一基材表面和所述第二基材表面平行；

所述遮光片体的沿宽度方向的两端分别为第一端和第二端，所述第二端与所述第二基材表面平齐，所述第一端与所述第一基材表面之间留有预设间距；所述预设间距为10~25微米。

2.根据权利要求1所述的防窥膜，其特征在于，所述遮光片体的厚度为15~30纳米，长度为20~50微米，宽度为10~15微米；

以及，所述基材层的厚度为25~40微米。

3.根据权利要求2所述的防窥膜，其特征在于，若干所述遮光片体在所述第二基材表面的投影的分布密度为每平方厘米800~1000个。

4.根据权利要求1所述的防窥膜，其特征在于，若干所述遮光片体在所述第二基材表面的投影的排布形状包括：网格状、回字形或者螺旋形中的一种；

或者，若干所述遮光片体在所述固化基材层内均匀分布。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的防窥膜，其特征在于，所述固化基材层为紫外线固化材料膜层，所述遮光片体为片状结构的四氧化三钴。

6.一种防窥膜的制备方法，其特征在于，包括：

将若干遮光片体与呈液态的待固化材料混合，形成第一混合液；所述遮光片体为片状结构，所述遮光片体的材料具有铁磁性；

将所述第一混合液涂布于支撑基板的表面，形成涂布层；

对所述涂布层施加预设条件的超声波；

对所述涂布层施加磁场，以将若干所述遮光片体均牵引至垂直于所述涂布层，使得所述遮光片体的厚度方向与所述涂布层的厚度方向垂直；

固化所述涂布层，去除所述支撑基板得到固化基材层；

所述固化基材层包括平行的第一基材表面和第二基材表面；所述遮光片体包括相对布置的遮光面，所述遮光面垂直于所述遮光片体的厚度方向，所述遮光面的形状为矩形；

所述遮光片体的宽度方向与所述第一基材表面和所述第二基材表面垂直，所述遮光片体的长度方向与所述第一基材表面和所述第二基材表面平行；

所述遮光片体的沿宽度方向的两端分别为第一端和第二端，所述第二端与所述第二基材表面平齐，所述第一端与所述第一基材表面之间留有预设间距；所述预设间距为10~25微米。

7.根据权利要求6所述的防窥膜的制备方法，其特征在于，所述遮光片体为片状结构的四氧化三钴，所述片状结构的四氧化三钴的制备过程包括：

向盛有六水合硝酸钴的容器中依次加入预设剂量的十六烷基三甲基溴化铵、浓氨水以及去离子水，以形成预设摩尔浓度比的第二混合液；

将所述第二混合液搅拌后置于微波反应容器中，经预设条件的微波反应后静置冷却得到第一反应产物；

所述第一反应产物经离心和洗涤后的置于烘箱中干燥，制备得到前驱体粉末；

将所述前驱体粉末置于马弗炉中煅烧处理，冷却至室温后即得所述片状结构的四氧化三钴。

8.一种显示面板，其特征在于，包括：显示模组以及如权利要求1至5中任一项所述的防窥膜；

所述显示模组为有机电致发光模组或者液晶发光模组。