[发明专利]存储器的测试方法及相关设备在审
申请号: | 202010166643.9 | 申请日: | 2020-03-11 |
公开(公告)号: | CN113393888A | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 章恒嘉;史传奇;丁丽 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G11C29/12 | 分类号: | G11C29/12;G11C29/44 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;孙宝海 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 存储器 测试 方法 相关 设备 | ||
本公开实施例提供一种存储器的测试方法及装置、电子设备和计算机可读存储介质,涉及半导体器件测试技术领域。该方法由内建自测电路执行,该方法包括:测试第一存储器,获取第一存储器的缺陷信息;根据所述第一存储器的缺陷信息,获得所述第一存储器的修复信息;将所述第一存储器的修复信息存储于第二存储器中。本公开实施例提供的技术方案,可以利用其他存储器来存储当前被测试的存储器的修复信息,从而可以扩大存储空间,提高测试效率,同时利用内建自测电路来实施存储器的测试过程,可以减轻对自动测试设备的依赖程度,降低测试成本。
技术领域
本公开涉及半导体器件测试技术领域,具体而言,涉及一种存储器的测试方法及相关设备。
背景技术
随着半导体工艺尺寸不断缩小,IC(Integrated Circuit,集成电路)设计的规模越来越大,高度复杂的IC产品正面临着高可靠性、高质量、低成本以及更短的产品上市周期等日益严峻的挑战。一方面随着半导体工艺尺寸的缩小,存储器可能存在的缺陷类型越来越多;另一方面,随着IC产品的复杂度的提高,RAM(Random Access Memory,随机存取存储器)等存储器在IC产品中的比重越来越大。
一方面,以DRAM(Dynamic Random Access Memory,动态随机存取存储器))测试为例,需要用于测试存储器的自动测试设备(Automatic Test Equipment,ATE)的机台内部记忆体空间来记录存储器缺陷位置及备用电路的信息,通过ATE分析运算行为产生修补信息,再进行存储器的修补。
在较大容量的存储器测试时或需要精准分析时,ATE内部记忆体空间将可能不足,进而被迫暂停测试进行多次测试及修补,造成测试成本增加。相关技术中,由于ATE内部记忆体空间有限,甚至不支持缺陷位置存储及缺陷分析。如果需要增加ATE的记忆体空间,会导致ATE非常昂贵,或者记忆体空间的扩充已经达到了ATE的上限。
相关技术中存在的一种解决方式是通过高倍率压缩进行测试,但高倍率压缩测试,容易出现无法修补、良率降低的问题。
另一方面,使用ATE通过DA Pad(Direct Access Pads,直接访问通道)对DRAM进行测试时,随着DRAM位宽的增加,一个touch down(指利用探针卡(probe card)测试时,一次按压与DA Pad的接触称之为一个touch down)没法即将整片wafer(晶圆)测试完成。另外当进行高速测试时,需要高端机台,会显著地增加测试成本。
需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种存储器的测试方法及相关设备,能够克服上述相关技术存在的ATE机台内存空间有限,无法为存储器测试过程中的缺陷信息、修复信息等提供足够的存储空间、以及利用ATE测试存储器时带来的测试成本高、测试周期长、测试速度受限的技术问题。
本公开实施例提供一种存储器的测试方法,所述方法由内建自测电路执行,其中,所述方法包括:测试第一存储器,获取所述第一存储器的缺陷信息;根据所述第一存储器的缺陷信息,获得所述第一存储器的修复信息;将所述第一存储器的修复信息存储于第二存储器中。
在本公开一些示例性实施例中,在测试所述第一存储器之前,所述方法还包括:测试所述第二存储器,获取所述第二存储器的缺陷信息;存储所述第二存储器的缺陷信息;根据所述第二存储器的缺陷信息,获得所述第二存储器的修复信息;利用所述第二存储器的修复信息修复所述第二存储器。
在本公开一些示例性实施例中,所述第一存储器和所述第二存储器属于同一存储设备。
在本公开一些示例性实施例中,所述存储设备还包括控制芯片,所述内建自测电路设置于所述控制芯片中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010166643.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:阿司匹林丁香酚酯工艺杂质及其制备方法
- 下一篇:出声孔异常状态检测方法及装置