[发明专利]热真空干燥设备的定位销、基台和热真空干燥设备有效

专利信息
申请号: 202010119349.2 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN111306164B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 郑清艺;陆忠 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;F16B19/02;F26B5/04
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 尹璐
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 真空 干燥设备 定位
【权利要求书】:

1.一种热真空干燥设备的定位销,其特征在于,所述定位销的形状为圆台形,所述定位销的上底面的中心在所述定位销的下底面的正投影与所述定位销的下底面的中心不重合。

2.根据权利要求1所述的定位销,其特征在于,所述定位销的母线与下底面之间的夹角为50°~80°。

3.根据权利要求2所述的定位销,其特征在于,仅具有一个贯穿所述定位销的上底面和所述定位销的下底面的螺孔。

4.根据权利要求3所述的定位销,其特征在于,所述螺孔在所述定位销的下底面上的正投影与所述定位销的下底面的中心不重合。

5.根据权利要求4所述的定位销,其特征在于,定义通过所述定位销的下底面的中心和所述螺孔在所述定位销的下底面上的正投影的线段为第一线段,所述第一线段的两个端点均位于所述定位销的下底面边沿,且所述螺孔在所述定位销的下底面上的正投影将所述第一线段划分为第一段和第二段,所述第一段与所述第二段的长度之比为(1~3):(2~4)。

6.一种热真空干燥设备的基台,其特征在于,包括:

底座;

基板,所述基板位于所述底座的上方;

多个升降销,多个所述升降销固定在所述底座上,且位于所述基板的下方,并用于支撑以及升降所述基板;和

多个权利要求1~5中任一项所述的定位销,多个所述定位销固定在所述底座上,且围绕所述基板的边沿设置,当所述基板处于下降状态时,多个所述定位销用于定位所述基板。

7.根据权利要求6所述的基台,其特征在于,所述基板为矩形,所述定位销分别设置在所述基板边沿的四个拐角处,每个所述拐角处由相互垂直的第一边沿和第二边沿构造而成,每个所述拐角处设置有两个所述定位销,设置于每个所述拐角处的两个所述定位销分别位于所述第一边沿和所述第二边沿外侧。

8.根据权利要求6所述的基台,其特征在于,当所述定位销与所述基板相接触时,通过所述定位销与所述基板的接触点的所述定位销的母线与所述定位销的下底面之间的夹角为60°。

9.根据权利要求6所述的基台,其特征在于,还包括:

螺杆,所述螺杆穿设于所述定位销上的螺孔中,所述定位销可围绕所述螺杆进行旋转。

10.根据权利要求6~9中任一项所述的基台,其特征在于,当所述基板处于下降状态时,部分所述定位销与所述基板相接触,部分所述定位销与所述基板之间存在间隙,所述间隙为2mm~12mm。

11.根据权利要求10所述的基台,其特征在于,所述间隙为2mm。

12.一种热真空干燥设备,其特征在于,包括权利要求6~11中任一项所述的基台。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010119349.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top