[发明专利]检测装置、检测准分子激光器放电腔部件钝化程度的方法有效

专利信息
申请号: 202010113630.5 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN111307924B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 郭馨;江锐;王倩;周翊;赵江山;王宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 王胜利
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 检测 装置 准分子激光 放电 部件 钝化 程度 方法
【说明书】:

发明实施例提供一种检测装置、检测准分子激光器的放电腔部件钝化程度的方法,涉及光电技术领域,可判断放电腔部件内的钝化层是否钝化完成。一种检测装置,用于检测准分子激光器的放电腔部件的钝化程度,包括准分子激光器、测试腔、试样槽、钝化气瓶、质谱仪;准分子激光器包括放电腔部件;试样槽位于测试腔内;钝化气瓶和质谱仪分别与测试腔连接;试样槽,用于盛放从所述放电腔部件取样的钝化样品;钝化气瓶,用于向测试腔输入钝化气体,得到钝化层;质谱仪,用于检测测试腔内的有害气体的含量,并判断钝化是否完成。

技术领域

本发明涉及光电技术领域,尤其涉及一种检测装置、检测准分子激光器的放电腔部件钝化程度的方法。

背景技术

准分子激光器是紫外波段重要的激光器件,在半导体、液晶显示、太阳能光伏、汽车制造、医疗、科研和国防等领域具有重要的应用价值。

但是,准分子激光器的工作介质包含强腐蚀性的卤素介质,会与放电腔部件内的硅(Si)、碳(C)、氢(H)、氧(O)等元素反应生成有害气态产物。研究表明,10ppm量级的HF、O2、CF4等有害气体即显著影响激光器的性能。因此,准分子激光器使用前需要对放电腔部件进行钝化处理。

然而,目前放电腔部件的钝化是否完成仍需要依靠经验判断,由此将造成两个问题:1、放电腔钝化过度或钝化不足,钝化过度不仅会造成时间及能源的浪费,还可能引起内部危害性元素过多的向表面聚集;而钝化不足时,放电腔部件运行过程会生成大量的有害气体,影响准分子激光器的输出性能,严重影响效率和运行成本。2、观察法或检测方式难以发现一段时间后由于危害性元素向表面扩散生成大量有害气体的情况,不利于对部件的钝化适用性进行预测。

发明内容

本发明的实施例提供一种检测装置、检测准分子激光器的放电腔部件钝化程度的方法,可判断放电腔部件内的钝化层是否钝化完成。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一方面,提供一种检测装置,用于检测准分子激光器的放电腔部件的钝化程度,包括准分子激光器、测试腔、试样槽、钝化气瓶、质谱仪;所述准分子激光器包括放电腔部件;所述试样槽位于所述测试腔内;所述钝化气瓶和所述质谱仪分别与所述测试腔连接;所述试样槽,用于盛放从所述放电腔部件取样的钝化样品;所述钝化气瓶,用于向所述测试腔输入钝化气体,得到钝化层;所述质谱仪,用于检测所述测试腔内的有害气体的含量,并判断钝化是否完成。

可选的,所述检测装置还用于检测准分子激光器的放电腔部件的钝化适用性。

可选的,所述检测装置包括反射镜、聚焦透镜、调整平移台、以及控制器;所述调整平移台,用于承载所述试样槽;所述控制器,用于控制调整平移台的位置;所述反射镜,用于反射所述准分子激光器出射的激光,并将所述激光反射至所述聚焦透镜上;所述聚焦透镜,用于将所述激光作用到所述试样槽中的钝化样品上,去除所述钝化层;所述钝化气瓶,还用于向去除所述钝化层的所述测试腔输入所述钝化气体;所述质谱仪,还用于检测去除所述钝化层的所述测试腔内的有害气体的含量,并判断所述钝化样品是否适用于所述放电腔部件。

可选的,所述检测装置还包括真空泵,所述真空泵与所述测试腔连接。

可选的,所述检测装置还包括加热装置;所述加热装置用于为所述测试腔加热。

可选的,所述检测装置还包括与所述钝化气瓶和所述测试腔连接的钝化气体阀、与所述质谱仪和所述测试腔连接的质谱仪气体阀。

另一方面,提供一种检测准分子激光器的放电腔部件钝化程度的方法,包括:从放电腔部件中取样钝化样品,放入试样槽内;所述试样槽位于测试腔内;利用钝化气瓶向所述测试腔输入钝化气体,生成钝化层,并利用质谱仪对所述测试腔内生成的有害气体的含量进行检测;若所述有害气体的含量小于预设值,则钝化完成;否则,使所述测试腔恢复至真空状态,并再次向所述测试腔输入钝化气体,检测所述有害气体的含量,直至所述测试腔内的所述有害气体的含量小于所述预设值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010113630.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top