[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法

说明书

本发明提供一种彩膜基板及其制造方法，属于显示面板的技术领域。制造方法包括如下步骤：涂覆间隔物材料光阻，首先通过第一掩膜版对间隔物材料光阻进行曝光形成不同段差的主间隔物前体和辅间隔物前体；然后涂覆间隔物材料光阻，采用第二掩膜版继续对主间隔物前体、辅间隔物前体和间隔物材料光阻进行曝光并制作不同高度和不同表面形态的主隔垫物和辅隔垫物，使得主间隔物和辅间隔物的上表面的长度不小于下表面的长度。本发明通过多次曝光使得主间隔物和辅间隔物的上表面的长度不小于下表面的长度，以此可以增加间隔物的抗压能力，增加间隔物的上表面和配向膜之间的摩擦力，增加间隔物的滑动划伤配向膜的难度，达到改善配向膜划伤导致的漏光现象。

技术领域

本发明涉及一种面板显示的技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制造方法。

背景技术

随着信息技术的快速发展，液晶显示也因其独特的优势广泛应用于生活中的方方面面。伴随着技术更新和消费升级，人们对显示器的品质要求也越来越高。目前液晶显示器在运输和使用过程中受限于材料特性普遍存受挤压后边缘漏光现象，影响产品使用体验。此现象的主要原因是因为现有PS(间隔物)材料制成的间隔物为楔锥形形状，上底比较尖，受力后极易划伤PI导致漏光。

现有改善技术主要有增加BM线宽和使用高精细PS，增加BM线宽可以增加遮光区域，但极大地影响了显示面板的开口率和穿透率，而使用高精细PS也仅有限地改善了边缘漏光现象，而且高精细PS材料较为昂贵；

发明内容

本发明的目的在于提供形成增加间隔物的抗压能力和达到改善配向膜划伤导致漏光的彩膜基板及其制造方法。

本发明提供一种彩膜基板的制造方法，包括如下步骤：涂覆间隔物材料光阻，首先通过第一掩膜版对间隔物材料光阻进行曝光形成不同段差的主间隔物前体和辅间隔物前体；然后涂覆间隔物材料光阻，采用第二掩膜版继续对主间隔物前体、辅间隔物前体和间隔物材料光阻进行曝光并制作不同高度和不同表面形态的主隔垫物和辅隔垫物，使得主间隔物和辅间隔物的上表面的长度不小于下表面的长度；其中，第一掩膜版和第二掩膜版为半透半反掩膜版或半曝光掩膜版。

优选地，第一掩膜版设有形成主间隔物的第一主图案区和形成辅间隔物的第一辅图案区；第二掩膜版设有形成主间隔物的第二主图案区和形成辅间隔物的第二辅图案区；其中，第二主图案区的尺寸大于第一主图案区的尺寸，第二辅图案区的尺寸大于第二辅图案区的尺寸。

本发明又提供一种彩膜基板的制造方法，包括如下步骤：涂覆间隔物材料光阻，首先通过第一掩膜版对间隔物材料光阻进行曝光形成不同段差的主间隔物前体和辅间隔物前体；然后涂覆间隔物材料光阻，依序采用第二掩膜版和第三掩膜版依序继续对主间隔物前体、辅间隔物前体和间隔物材料光阻进行曝光并制作不同高度和不同表面形态的主隔垫物和辅隔垫物，使得主间隔物和辅间隔物的上表面的长度不小于下表面的长度；其中，第一掩膜版、第二掩膜版和第三掩膜版为半透半反掩膜版或半曝光掩膜版；每次曝光前都需要涂覆间隔物材料光阻。

优选地，第一掩膜版设有形成主间隔物的第一主图案区和形成辅间隔物的第一辅图案区；第二掩膜版设有形成主间隔物的第二主图案区和形成辅间隔物的第二辅图案区；第三掩膜版设有形成主间隔物的第三主图案区和形成辅间隔物的第三辅图案区；其中，第三主图案区的尺寸大于第二主图案区的尺寸，第三辅图案区的尺寸大于第二辅图案区的尺寸；第二主图案区的尺寸大于第一主图案区的尺寸，第二辅图案区的尺寸大于第二辅图案区的尺寸。

本发明又提供一种彩膜基板的制造方法，包括如下步骤：涂覆间隔物材料光阻，首先通过第一掩膜版对间隔物材料光阻进行曝光形成不同段差的主间隔物前体和辅间隔物前体；然后涂覆间隔物材料光阻，依序采用第二掩膜版、第三掩膜版和第四掩膜版依序继续对主间隔物前体、辅间隔物前体和间隔物材料光阻进行曝光并制作不同高度和不同表面形态的主隔垫物和辅隔垫物，使得主间隔物和辅间隔物的上表面的长度不小于下表面的长度；其中，第一掩膜版、第二掩膜版、第三掩膜版和第四掩膜版为半透半反掩膜版或半曝光掩膜版；每次曝光前都需要涂覆间隔物材料光阻。