[发明专利]一种极点屏、极点屏的制备方法以及电子设备

权利要求书

1.一种极点屏，其特征在于，所述极点屏包括依次设置的盖板、光学透明胶、偏光层、第一玻璃层、间隙层、以及第二玻璃层，其中，所述偏光层包括偏光片和光学透明树脂；

所述第一玻璃层的第一表面、所述第二玻璃层的第二表面、以及所述第二玻璃层的第三表面镀有抗反射膜，所述抗反射膜的覆盖区域包括所述极点屏的极点孔区，所述第一表面与所述第二表面相对；

在所述极点孔区以外的区域，所述间隙层包括多个不连续结构，所述不连续结构架空所述第一玻璃层与所述第二玻璃层，以形成真空区域，两个相邻所述不连续结构之间为所述真空区域，所述第二玻璃层的第二表面镀有的抗反射膜位于两个相邻所述不连续结构之间；其中所述极点屏为AMOLED极点屏。

2.根据权利要求1所述的极点屏，其特征在于，所述抗反射膜包括交替叠加的第一膜层与第二膜层；

所述第一膜层的折射率低于所述第二膜层的折射率。

3.根据权利要求2所述的极点屏，其特征在于，所述第一膜层与所述第二膜层交替叠加的层数至少为五层。

4.根据权利要求2所述的极点屏，其特征在于，

所述第一膜层包括二氧化硅层；

所述第二膜层包括二氧化钛层、五氧化二铌层、钛酸镧层、氮化硅层中的任意一种。

5.根据权利要求1所述的极点屏，其特征在于，所述抗反射膜的厚度为100-500纳米。

6.根据权利要求1所述的极点屏，其特征在于，所述第一玻璃层包括封装玻璃；所述第二玻璃层包括低温多晶硅基板。

7.根据权利要求1所述的极点屏，其特征在于，所述抗反射膜的覆盖区域包括：所述第一玻璃层的第一表面、所述第二玻璃层的第二表面、以及所述第二玻璃层的第三表面分别对应的整个表面区域；或，

所述第一玻璃层的第一表面、所述第二玻璃层的第二表面、以及所述第二玻璃层的第三表面分别对应的极点孔区。

8.一种极点屏的制备方法，其特征在于，所述极点屏包括依次设置的盖板、光学透明胶、偏光层、第一玻璃层、间隙层、以及第二玻璃层，其中，所述偏光层包括偏光片和光学透明树脂；所述方法包括：

通过预设镀膜工艺，在所述第一玻璃层的第一表面、所述第二玻璃层的第二表面、以及所述第二玻璃层的第三表面上镀抗反射膜，所述抗反射膜的覆盖区域包括所述极点屏的极点孔区，所述第一表面与所述第二表面相对；所述预设镀膜工艺包括电子束蒸镀工艺、磁控溅射镀膜工艺中的任意一种；

在所述极点孔区以外的区域，所述间隙层包括多个不连续结构，所述不连续结构架空所述第一玻璃层与所述第二玻璃层，以形成真空区域，两个相邻所述不连续结构之间为所述真空区域，所述第二玻璃层的第二表面镀有的抗反射膜位于两个相邻所述不连续结构之间；其中所述极点屏为AMOLED极点屏。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一玻璃层的镀膜温度为300℃以下；

所述第二玻璃层的镀膜温度为60℃以下。

10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求1-7任一项所述的极点屏。