[发明专利]一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液

权利要求书

1.一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，包括：磨料、氧化剂、生物缓冲液、pH调节剂和水性介质，所述磨料为硅溶胶(SiO₂)和铝溶胶(Al₂O₃)中的其中一种或者两者的混合物，所述磨料的重量百分比浓度为1％-50％，所述生物缓冲液的重量百分比浓度为0.05％-5％，所述氧化剂的重量百分比浓度为0.2％-10％；所述抛光液的pH值为7-11。

2.如权利要求1所述的用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，所述磨料还包括钻石粉液，所述钻石粉液的重量百分比浓度为0.5％-10％，所述钻石粉的粒径为0.1-5微米。

3.如权利要求1所述的用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，所述生物缓冲液为：2-吗啉-4-基乙磺酸、双(2-羟乙基)氨基(三羟甲基)甲烷、N(2-乙酰氨基)亚氨基二乙酸、N-氨基甲酰甲基乙磺酸、哌嗪-N,N-二(2-乙磺酸)、3-(N-吗啡啉-羟基丙磺酸、1,3-双[(三羟甲基)甲基氨基]丙烷、N,N-双(2-羟乙基)-2-氨基乙磺酸、3-(N-吗啉基)丙磺酸、4-(2-羟乙基)哌嗪-1-乙磺酸、Tris(三羟甲基氨基甲烷)、3-[N,N-二(羟乙基)氨基]-3-羟基丙磺酸、3-[N-三(羟甲基)甲胺]-2-羟基丙磺酸、Tris(2-氨基-2-羟甲基-1,3-丙二醇、N-2-羟乙基哌嗪-N’-羟基丙磺酸、哌嗪-1,4-二羟基丙磺酸、4-羟乙基哌嗪乙磺酸、三乙醇胺、三(羟甲基)甲基甘氨酸、N,N-双(2-羟乙基)甘氨酸、[3-(羟甲基)甲基氨基]丙烷磺酸、3-[1,1-二甲基-2-羟乙基]氨基)-2-羟基丙烷磺酸、2-正环己基氨基乙磺酸、3-(环己基氨基)-2-羟基-1-丙烷磺酸、2-(氨基-2-甲基)-1-丙醇和3-环己氨基丙磺酸中的一种或者多种的溶液。

4.如权利要求1所述的用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，所述氧化剂为高氯酸(HClO₄)、高氯酸钾(KClO₄)、高氯酸钠(NaClO₄)、氯酸钾(KClO₃)、氯酸钠(NaClO₃)、高碘酸(HIO₄)、高碘酸钾(KIO₄)、高碘酸钠(NaIO₄)、碘酸(HIO₃)、碘酸钾(KIO₃)、过氧化氢(H2O₂)、臭氧(O₃)、过硫酸钾(K₂S₂O₈)、过硫酸铵((NH₃)₂S₂O₈)、过硫酸钠(Na₂S₂O₈)、硝酸钾(KNO₃)、硝酸钠(NaNO₃)、亚硝酸钠(NaNO₂)和过氧化丁酮中的一种或者多种。

5.如权利要求1～4任一所述的用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，所述pH调节剂为KOH或HNO₃。

6.如权利要求1～4任一所述的用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，所述磨料的重量百分比浓度为2％-20％，所述磨料中SiO₂或Al₂O₃的粒径为40－120纳米。

7.如权利要求1～4任一所述的用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，所述氧化剂的重量百分比浓度为0.5％-6％。

8.如权利要求1～4任一所述的用于碳化硅化学机械抛光的抛光液，其特征在于，所述生物缓冲液的重量百分比浓度为0.1％-2％。