[发明专利]等离子体处理系统及其开合法拉第组件

权利要求书

1.一种开合法拉第组件，包括法拉第层，其特征在于，所述的法拉第层包括旋钮、射频接入块、驱动射频接入块移动的升降机构、若干均布在O轴外侧并呈分体设置的环扇片；其中：所述的旋钮，整体呈圆环状，可旋转地同心设置在O轴外侧，并沿着旋钮的环面等距设置有数量与环扇片数量匹配的导向滑槽；

每一块环扇片均包括内圆弧面、外圆弧面以及将内圆弧面、外圆弧面的同侧分别连接的第一侧型面、第二侧型面；同时，每一块环扇片均在靠近外圆弧面的扇面上分别设置有两根定位件；所述的两根定位件分别为第一、第二定位件；

各环扇片均在旋钮的带动下能够同步围绕各自扇面上所设置的第一定位件旋转，并通过第二定位件与旋钮上的导向滑槽的导向连接而限制旋转幅度在第一极限位置、第二极限位置之间；

当各环扇片处于第一极限位置时，法拉第层处于闭合状态，此时各环扇片的内圆弧面处于O轴外侧的同心圆a的圆周上并等距布置，而各环扇片的外圆弧面则处于O轴外侧的同心圆b的圆周上并等距布置，且同心圆a的内径小于同心圆b的内径；

当各环扇片处于第二极限位置时，法拉第层处于打开状态，此时各环扇片的第一侧型面能够与最大打开内切圆相切，旋钮内侧与最大打开内切圆对应的区域完全暴露；

射频接入块与升降机构的动力输出端连接；

在升降机构的动力驱动下，射频接入块能够朝向法拉第层移动，以与处于闭合状态的法拉第层的各环扇片的内圆弧面导电连接，或者背离法拉第层移动，以与处于打开状态的法拉第层分离。

2.根据权利要求1所述的开合法拉第组件，其特征在于，所述的导向滑槽为条形槽。

3.根据权利要求2所述的开合法拉第组件，其特征在于，所述条形槽倾斜设置。

4.根据权利要求1所述的开合法拉第组件，其特征在于，所述第一、第二侧型面均为平直型面；或者所述第一侧型面为外凸弧形型面、而第二侧型面则为内凹弧形型面。

5.根据权利要求1所述的开合法拉第组件，其特征在于，所述的升降机构包括气缸、气缸转接板以及气缸转接绝缘杆；气缸的动力输出端依次通过气缸转接板、气缸转接绝缘杆与射频接入块固定。

6.根据权利要求1所述的开合法拉第组件，其特征在于，所述的第一、第二定位件均为销钉。

7.一种具有开合法拉第组件的等离子体处理系统，包括耦合窗，其特征在于，耦合窗外侧设置有如权利要求1所述的开合法拉第组件；

各环扇片均通过各自扇面上所设置的第一定位件与耦合窗定位连接；

耦合窗在与旋钮的外缘对应的位置处设置旋转定位面；旋钮能够通过旋转定位面的定位而围绕O轴旋转。

8.根据权利要求7所述的具有开合法拉第组件的等离子体处理系统，其特征在于，开合法拉第组件外侧设置有线圈结构，包括中部线圈；中部线圈正投影在旋钮的内侧区域，且中部线圈的外径不大于最大打开内切圆的直径；

当各环扇片处于第一极限位置时，处于闭合状态的各环扇片的内圆弧面通过射频接入块与法拉第射频电源连接；

当各环扇片处于第二极限位置时，中部线圈完全暴露在耦合窗表面；中部线圈、边缘线圈均与线圈射频电源连接。

9.根据权利要求8所述的具有开合法拉第组件的等离子体处理系统，其特征在于，所述线圈结构还包括相对于中部线圈独立设置的边缘线圈；边缘线圈能够正投影在旋钮的内侧区域；

当各环扇片处于第二极限位置时，中部线圈、边缘线圈均完全暴露在耦合窗表面；中部线圈、边缘线圈均与线圈射频电源连接。

10.根据权利要求7所述的具有开合法拉第组件的等离子体处理系统，其特征在于，所述的第一定位件为第一销钉；耦合窗在与各环扇片上的第一销钉对应的位置处均设置有销孔；各环扇片通过各自扇面上所设置的第一销钉与耦合窗上的各销孔一一对应配合连接；

所述耦合窗沿中部位置处设置中部固定孔；中部固定孔配装有陶瓷进气嘴，该陶瓷进气嘴的出气部位配装喷嘴。