[发明专利]固态成像器件及固态成像器件的制造方法

说明书

本发明涉及能够在抑制混色恶化的同时提高灵敏度的固态成像器件及固态成像器件的制造方法。固态成像器件包括：基板；第一光电转换区域，设置于基板；第二光电转换区域，与第一光电转换区域相邻地设置于基板；沟槽，深度大于宽度，且设置在第一光电转换区域与第二光电转换区域之间；第一蛾眼结构，在第一光电转换区域的上方设置于基板的光接收表面侧；第二蛾眼结构，在第二光电转换区域的上方设置于基板的光接收表面侧；绝缘膜，折射率小于基板的折射率，并且设置于沟槽内的至少一部分，且设置在第一蛾眼结构和第二蛾眼结构的上方；以及遮光膜，设置于绝缘膜的上方且沟槽的上方。本发明的技术可例如应用于背面照射型固态成像器件。

本申请是申请日为2014年06月20日、发明名称为“固态成像器件及固态成像器件的制造方法”的申请号为201910972850.0的专利申请(下称“子案”)的分案申请。

上述子案是第201480028257.6号专利申请(下文称“母案”)的分案申请，该母案的申请日是2014年06月20日，发明名称是“固态成像器件、固态成像器件的制造方法及电子装置”。

技术领域

本发明涉及固态成像器件、固态成像器件的制造方法以及电子装置，并具体地涉及能够在抑制混色恶化的同时提高灵敏度的固态成像器件、固态成像器件的制造方法以及电子装置。

背景技术

在固态成像器件中，已经提出了所谓的蛾眼结构(moth-eye structure)以作为用于防止入射光反射的结构，在蛾眼结构中，在形成有光电二极管的硅层的处于光接收表面侧的界面上设置微细凸凹结构(例如，参见专利文献1和2)。

引用文献列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请特开第2010-272612号

专利文献2：日本专利申请特开第2013-33864号

发明内容

本发明要解决的问题

然而，能够通过防止入射光反射来提高灵敏度的蛾眼结构还会引起更大的漫射，使得大量的光泄漏到邻近像素中，并因而使混色恶化。

本发明是考虑到这种情况而提出的，且本发明的目的在于在抑制混色劣化的同时提高灵敏度。

问题的解决方案

本发明的固态成像器件包括：基板；第一光电转换区域，设置于所述基板；第二光电转换区域，与所述第一光电转换区域相邻地设置于所述基板；沟槽，深度大于宽度，且设置在所述第一光电转换区域与所述第二光电转换区域之间；第一蛾眼结构，在所述第一光电转换区域的上方设置于所述基板的光接收表面侧；第二蛾眼结构，在所述第二光电转换区域的上方设置于所述基板的光接收表面侧；绝缘膜，折射率小于所述基板的折射率，并且设置于所述沟槽内的至少一部分，且设置在所述第一蛾眼结构和所述第二蛾眼结构的上方；以及遮光膜，设置于所述绝缘膜的上方且所述沟槽的上方。

此外，本发明的固态成像器件的制造方法的特征在于，在设置于基板的第一光电转换区域和第二光电转换区域的上方的所述基板正面形成蛾眼结构之后，将深度大于宽度的沟槽形成于所述第一光电转换区域与所述第二光电转换区域之间的所述基板，在所述蛾眼结构的上方，以设置于所述沟槽内的至少一部分的方式形成折射率小于所述基板的折射率的绝缘膜，在所述绝缘膜的上方且所述沟槽的上方形成遮光膜。

此外，本发明的固态成像器件的制造方法的特征在于，在设置于基板的第一光电转换区域与第二光电转换区域之间的所述基板形成有深度大于宽度的沟槽之后，在所述第一光电转换区域和所述第二光电转换区域的上方的所述基板正面形成蛾眼结构，在所述蛾眼结构的上方，以设置于所述沟槽内的至少一部分的方式形成折射率小于所述基板的折射率的绝缘膜，在所述绝缘膜的上方且所述沟槽的上方形成遮光膜。