[发明专利]一种芯片上的电容装置在审

专利信息
申请号: 202010000172.4 申请日: 2020-01-06
公开(公告)号: CN111063801A 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 韦强;张建伟 申请(专利权)人: 上海明矽微电子有限公司;张建伟
主分类号: H01L49/02 分类号: H01L49/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 电容 装置
【权利要求书】:

1.一种在芯片上的电容装置,其特征在于,一种堆叠的电容装置,在不增加芯片掩模层次和生产成本的条件下,显著的降低芯片的面积和成本。

2.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,在芯片的电路设计中,通常会使用到基本的工艺器件,比如MOS管、电容和电阻等,为了减小芯片的面积,本发明提出一种堆叠的电容装置。

3.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,以SMIC013工艺为列,通过在普通电容器件(如PIP、MOS)的基础上叠加MOM电容(MOM即metal to metal)的方法,从而可以有效缩小电容面积。

4.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,这种方法是通过2种或多种电容的叠加,提高了单位电容值,起到了减小电容的面积。

5.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,所述的如图1所示,EEPROM普通电容器件,通常分为PIP电容和MOS电容。PIP电容是由POLY4和POLY3作为上下级板;MOS电容是由AA和POLY作为上下级板。

6.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,所述的如图2所示,本发明提出多种叠加电容的方法,分别可以组合成MOM+PIP、MOM+MOS、PIP+MOS+MOM以及PIP+MOS+MOM+TOW这4种电容叠加方式。

7.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,在SMIC 0.13um工艺上,PIP的电容值是每平方微米2.6fF;MOM的电容值是每平方微米0.5fF。PIP+MOM的电容值就是每平方微米3.1fF,单位电容值提高20%左右。

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