[发明专利]一种芯片上的电容装置在审
| 申请号: | 202010000172.4 | 申请日: | 2020-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN111063801A | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
| 发明(设计)人: | 韦强;张建伟 | 申请(专利权)人: | 上海明矽微电子有限公司;张建伟 |
| 主分类号: | H01L49/02 | 分类号: | H01L49/02 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 芯片 电容 装置 | ||
1.一种在芯片上的电容装置,其特征在于,一种堆叠的电容装置,在不增加芯片掩模层次和生产成本的条件下,显著的降低芯片的面积和成本。
2.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,在芯片的电路设计中,通常会使用到基本的工艺器件,比如MOS管、电容和电阻等,为了减小芯片的面积,本发明提出一种堆叠的电容装置。
3.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,以SMIC013工艺为列,通过在普通电容器件(如PIP、MOS)的基础上叠加MOM电容(MOM即metal to metal)的方法,从而可以有效缩小电容面积。
4.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,这种方法是通过2种或多种电容的叠加,提高了单位电容值,起到了减小电容的面积。
5.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,所述的如图1所示,EEPROM普通电容器件,通常分为PIP电容和MOS电容。PIP电容是由POLY4和POLY3作为上下级板;MOS电容是由AA和POLY作为上下级板。
6.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,所述的如图2所示,本发明提出多种叠加电容的方法,分别可以组合成MOM+PIP、MOM+MOS、PIP+MOS+MOM以及PIP+MOS+MOM+TOW这4种电容叠加方式。
7.如权利要求1所述的电容装置,其特征在于,在SMIC 0.13um工艺上,PIP的电容值是每平方微米2.6fF;MOM的电容值是每平方微米0.5fF。PIP+MOM的电容值就是每平方微米3.1fF,单位电容值提高20%左右。
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