[发明专利]一种芯片上的电容装置在审
| 申请号: | 202010000172.4 | 申请日: | 2020-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN111063801A | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
| 发明(设计)人: | 韦强;张建伟 | 申请(专利权)人: | 上海明矽微电子有限公司;张建伟 |
| 主分类号: | H01L49/02 | 分类号: | H01L49/02 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 芯片 电容 装置 | ||
现在科学技术已经进入了高速发展的阶段,人们在电子产品的需求也越来也高,这就对芯片提出了更高的要求:更快的速度,更小的面积和更低的功效。举例带电可擦可编程只读存储器EEPROM来说,其设计的一个核心问题即是EEPROM的面积,其直接影响了EEPROM存储器的成本。在相同工艺下,如果能把面积做得最小且性能好,就能占据比较大的面积成本优势。要把EEPROM面积做小包括很多方面,比如精简设计,模块的布局合理,堆叠电容的使用等等。本发明提出一种堆叠的电容装置。在不增加芯片掩模层次和生产成本的条件下,显著的降低芯片的面积和成本。
技术领域
本发明属于集成电路技术领域,具体来讲,属于芯片设计的技术领域。
背景技术
芯片在许多不同的领域都有广泛的应用,电子信息发展的同时,系统的集成度也越来越高。在电子信息领域,应用比较广泛的有嵌入式类的芯片:比如单片机、DSP,智能卡等;有存储类芯片:比如FLASH、EEPROM等。
随着移动互联网、云计算、物联网、大数据等新兴产业的增长,电子信息产业进入了新的发展阶段。控制、通信、汽车电子、人机交互和网络互联等融入了大量的新兴的电子技术,设备功能越来越复杂,系统集成度也越来越高。新兴电子信息技术的发展依赖于半导体产业的不断推动,因此,芯片作为一项核心技术,其使用变得越来越频繁和重要。近些年,随着科技的不断进步与技术的不断革新,芯片在军事、工业制造甚至日常生活中都有着十分广泛的应用。
现在科学技术已经进入了高速发展的阶段,人们在电子产品的需求也越来也高,这就对芯片提出了更高的要求:更快的速度,更小的面积和更低的功效。举例带电可擦可编程只读存储器EEPROM来说,其设计的一个核心问题即是EEPROM的面积,其直接影响了EEPROM存储器的成本。在相同工艺下,如果能把面积做得最小且性能好,就能占据比较大的面积成本优势。要把EEPROM面积做小包括很多方面,比如精简设计,模块的布局合理,堆叠电容的使用等等。
发明内容
在芯片的电路设计中,通常会使用到基本的工艺器件,比如MOS管、电容和电阻等。为了减小芯片的面积,本发明提出一种堆叠的电容装置。在不增加芯片掩模层次和生产成本的条件下,显著的降低芯片的面积和成本。
本方法以SMIC013工艺为列,通过在普通电容器件(如PIP、MOS)的基础上叠加MOM电容(MOM即metal to meatl)的方法,从而可以有效缩小电容面积。这种方法是通过2种或多种电容的叠加,大大提高了单位电容值,减小芯片上的电容面积和芯片的整体面积。
附图说明
图1为普通的电容器件图。
图2为叠加MOM电容的电容器件图。
具体实施方式
以下根据图1和图2,具体说明较佳实施例。
如图1所示,普通电容器件,通常分为PIP电容和MOS电容。PIP电容是由POLY4和POLY3作为上下级板;MOS电容是由AA和POLY作为上下级板。
如图2所示,本发明提出多种叠加电容的方法,分别可以组合成MOM+PIP、MOM+MOS、PIP+MOS+MOM以及PIP+MOS+MOM+TOW这4种电容叠加方式。
在SMIC 0.13um工艺上,PIP的电容值是每平方微米2.6fF;MOM的电容值是每平方微米0.5fF。PIP+MOM的电容值就是每平方微米3.1fF,单位电容值提高20%左右。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍,在本领域技术人员阅读了上述内容后,对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。以上的描述和附图仅仅是实施本发明的范例,但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。
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