[实用新型]一种五氧化三钛真空镀膜装置

说明书

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体为一种五氧化三钛真空镀膜装置，包括设备底座；设备底座固定在地面上，设备底座上设置有镀膜机体，镀膜机体内部设置有若干个镀膜仓，镀膜仓内部密封，镀膜仓下部加工有蒸发仓，蒸发仓内部设置有蒸发装置，镀膜仓顶端通过若干组高压管路与抽真空机连接，镀膜仓内设置有若干组移动轨道，移动轨道上设置有镀膜架，镀膜架的端部设置有密封镀膜门，本实用新型过设置蒸发装置，蒸发装置为能够升降的蒸发装置，在蒸发镀膜的过程中能够通过控制蒸发源与待镀膜件之间的间距进而控制镀膜厚度和镀膜效率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种五氧化三钛真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等；

真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学气相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。五氧化三钛蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜；

但是目前的真空镀膜设备镀膜过程中，蒸发速率低，过程不可控，不能进一步调控镀膜过程。

发明内容

本实用新型克服了上述现有技术的不足，提供了一种五氧化三钛真空镀膜装置。本实用新型通过设置蒸发装置，蒸发装置为能够升降的蒸发装置，在蒸发镀膜的过程中能够通过控制蒸发源与待镀膜件之间的间距进而控制镀膜厚度和镀膜效率，同时，蒸发装置内部由蒸发加热网作为蒸发加热源，大大提高了蒸发效率。

本实用新型的技术方案：

一种五氧化三钛真空镀膜装置，包括设备底座、镀膜机体、镀膜仓、蒸发仓、蒸发装置、镀膜架和密封镀膜门；所述设备底座固定在地面上，所述设备底座上设置有镀膜机体，所述镀膜机体内部设置有若干个镀膜仓，所述镀膜仓内部密封，所述镀膜仓下部加工有蒸发仓，所述蒸发仓内部设置有蒸发装置，所述镀膜仓顶端通过若干组高压管路与抽真空机连接，所述镀膜仓内设置有若干组移动轨道，所述移动轨道上设置有所述镀膜架，所述镀膜架的端部设置有密封镀膜门，所述密封镀膜门上设置有真空密封圈，所述镀膜仓的端部加工有与所述真空密封装置配合的密封凹槽，所述密封镀膜门外端设置有伸缩支撑装置。

进一步的，所述镀膜仓为筒型密封仓，所述密封仓壁为高强度密封仓壁；

所述蒸发仓为与一组与所述镀膜仓垂直的筒型密封仓，所述蒸发仓底部设置有蒸发装置。

进一步的，所述蒸发装置包括一组升降液压缸，所述升降液压缸设置在所述蒸发仓底部，所述升降液压缸顶端设置有蒸发坩埚，所述蒸发坩埚内设置有蒸发加热网，所述蒸发加热网设置布置在所述蒸发坩埚内端面上。

进一步的，所述蒸发加热网由若干组并联设置的加热电阻丝组成。

进一步的，所述镀膜架三组镀膜主架，三组镀膜主架之间通过一组水平设置的中间放置架连接，所述中间放置架上设置有若干组镀膜放置架，所述中间放置架的端部与一组密封镀膜门固定连接，所述镀膜主架外端设置有若干组移动滑块，所述移动滑块上加工有与所述移动轨道对应的移动孔，所述镀膜主架均通过所述移动孔与所述移动轨道的配合关系设置在所述移动轨道上。

进一步的，所述伸缩支撑装置包括两组伸缩气缸，所述伸缩气缸对称设置在所述密封镀膜门上，所述伸缩气缸的活动端设置有支撑腿，所述支撑腿的底端设置有支撑板。

进一步的，所述伸缩气缸为无杆气缸。

进一步的，所述密封镀膜门下端还与一组伸缩支撑架固定连接，所述伸缩支撑架下端设置有移动滚轮，所述伸缩支撑架设置在所述镀膜机体下端加工的放置槽内。

本实用新型相对于现有技术具有以下有益效果：