[实用新型]进气装置及半导体设备

权利要求书

1.一种进气装置，用于向半导体设备的工艺腔室提供工艺气体，其特征在于，包括主进气管路、第一组支进气管路、第二组支进气管路及调压机构；其中，

所述主进气管路的出气端分别与所述第一组支进气管路、所述第二组支进气管路的进气端相连接；

所述第一组支进气管路、所述第二组支进气管路的出气端分别与所述工艺腔室连通，用于将所述工艺气体输送至所述工艺腔室内的指定区域；

所述第一组支进气管路、第二组支进气管路上分别设置有支路气体流量调节装置；

所述调压机构与所述主进气管路相连接，用于控制所述主进气管路内的气体流量稳定在预设范围。

2.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述调压机构包括压力测量计、主路气体流量调节装置、与所述主进气管路连通的调压管路及调压装置；其中，

所述压力测量计，用于表征通过所述主进气管路上的气体的压力值；

所述主路气体流量调节装置，设置在所述主进气管路上，用于根据所述压力测量计的测量结果，将所述主进气管路的压力值调节至所述预设范围内；

所述调压装置，设置在所述调压管路上，用于根据所述主进气管路的压力值调节所述调压管路内的工艺气体流量。

3.根据权利要求2所述的进气装置，其特征在于，所述进气装置还包括与所述调压机构气路连通的工艺气体收集装置；

所述工艺气体收集装置设置于所述调压管路的末端。

4.根据权利要求3所述的进气装置，其特征在于，所述主路气体流量调节装置一端连接所述主进气管路的进气端，另一端分别连接所述压力测量计的进气端和所述调压装置的进气端；

所述压力测量计的出气端分别与所述第一组支进气管路、所述第二组支进气管路的进气端相连接；

所述调压管路的进气端设置在所述主进气管路上，且位于所述压力测量计和所述主路气体流量调节装置之间；

所述调压装置设置在所述调压管路上，且所述调压装置的出气端连接所述工艺气体收集装置的进气端。

5.根据权利要求2所述的进气装置，其特征在于，所述调压装置包括调节阀，所述调节阀用于调节所述调压管路内的工艺气体流量。

6.根据权利要求2-4任一项所述的进气装置，其特征在于，所述主路气体流量调节装置、支路气体流量调节装置为质量流量控制器。

7.根据权利要求2-5任一项所述的进气装置，其特征在于，所述进气装置还包括控制器，所述控制器分别与所述压力测量计和所述调压机构电连接，用于监测所述压力测量计的测量值，并根据所述测量值控制所述调压机构，以使所述主进气管路内的气体流量稳定在预设范围。

8.根据权利要求1-5任一项所述的进气装置，其特征在于，所述指定区域包括所述工艺腔室内的待处理工件的中部区域和/或两侧区域。

9.根据权利要求5所述的进气装置，其特征在于，所述调节阀包括蝶阀。

10.一种半导体设备，其特征在于，包括工艺腔室和与所述工艺腔室气路连通的进气装置，所述进气装置为如权利要求1-9任一项所述的进气装置。