[实用新型]一种半导体清洗快排清洗治具

权利要求书

1.一种半导体清洗快排清洗治具，包括底座，底座上面配合设置有上连接部，上连接部的上面配合设置有清洗工作部，其特征在于，所述底座、上连接部及其清洗工作部呈中空形状设置；所述底座、上连接部及其清洗工作部中贯穿设置有储水槽，上连接部的侧面设置有快开门体，快开门体连接有滤网组件，滤网组件覆盖在上连接部内部；底座底部还配合设置有出水口；所述清洗工作部的内部配合设置有移动喷淋组件，所述移动喷淋组件自上到下设置有若干组。

2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗快排清洗治具，其特征在于：所述移动喷淋组件分别设置在清洗工作部的两侧并分别为左侧工作部和右侧工作部；左侧工作部和右侧工作部的移动喷淋组件各设置有两组并对称设置。

3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗快排清洗治具，其特征在于：所述移动喷淋组件包括上侧喷淋组件和下侧喷淋组件，上侧喷淋组件包括上侧固定部，设置在上侧固定部上的上侧喷淋管，上侧喷淋管和上侧固定部之间设置有上侧转动组件。

4.根据权利要求3所述的一种半导体清洗快排清洗治具，其特征在于：所述下侧喷淋组件包括下侧固定部，设置在下侧固定部上的下侧喷淋管、设置在清洗工作部内侧的上下移动轨道；所述下侧固定部配合上下移动轨道设置。

5.根据权利要求3所述的一种半导体清洗快排清洗治具，其特征在于：所述上侧固定部和上侧喷淋管、下侧固定部和下侧喷淋管之间分别设置转动组件，所述转动组件包括分别设置在上侧喷淋管、下侧喷淋管上的转动轨道，配合转动轨道设置的转动轮；转动配合转动轨道设置。