[实用新型]制备陶瓷基材的系统

权利要求书

1.一种制备陶瓷基材的系统，其特征在于，包括：

第一流延装置，所述第一流延装置具有第一陶瓷浆料入口和第一膜片出口；

第二流延装置，所述第二流延装置具有第二陶瓷浆料入口、造孔剂入口和第二膜片出口；

等静压装置，所述等静压装置具有载板，所述载板具有第一膜片入口、第二膜片入口和等静压坯体出口，所述第一膜片入口与所述第一膜片出口相连，所述第二膜片入口与所述第二膜片出口相连；

排胶烧结装置，所述排胶烧结装置具有等静压坯体入口和陶瓷坯体出口，所述等静压坯体入口与所述等静压坯体出口相连；

后处理单元，所述后处理单元具有陶瓷坯体入口和陶瓷基材出口，所述陶瓷坯体入口与所述陶瓷坯体出口相连。

2.根据权利要求1所述的制备陶瓷基材的系统，其特征在于，所述第一流延装置和所述第二流延装置分别独立的为选自载带流延机、钢带流延机中的至少之一。

3.根据权利要求1或2所述的制备陶瓷基材的系统，其特征在于，所述载板为2D载板或3D载板。

4.根据权利要求3所述的制备陶瓷基材的系统，其特征在于，所述载板的材质为选自玻璃、陶瓷、金属中的至少之一。

5.根据权利要求1所述的制备陶瓷基材的系统，其特征在于，所述等静压装置为选自热压机、冷压机、冷等静压机、温等静压机中的至少之一。

6.根据权利要求1所述的制备陶瓷基材的系统，其特征在于，所述排胶烧结装置为箱式炉、隧道炉中的至少之一。

7.根据权利要求1所述的制备陶瓷基材的系统，其特征在于，所述后处理单元包括激光切割装置、CNC装置、减薄装置、清洗装置、退火装置、研磨装置、抛光装置、打孔装置中的至少之一。