[实用新型]一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路

说明书

一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路，包括纯水抛光系统和抛光液抛光系统和主管道，纯水抛光系统包括第一管道和与第一管道并联的第二管道，第一管道上设置有大流量气动阀，第二管道上设置有小流量气动阀，纯水分别通过纯水大流量气动阀和小流量气动阀汇入设置有第一流量计的第三管道；抛光液抛光系统包括第四管道和设置在第四管道上的抛光液调节阀和第一单向阀；第三管道和第四管道汇入主管道，主管道上设置有主气动阀、第二流量计和第一温度探头。本实用新型有效解决了抛光机抛光液过滤器出口到主转盘中心管处结晶的形成，结构简单，安装操作方便，安全性稳定性好，经实践验证，降低了设备故障率，增强了工艺稳定性，明显地提高了产品收率。

技术领域

本实用新型属于单晶硅抛光片生产技术领域，具体涉及一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路。

背景技术

单晶硅抛光片是IC行业的基础材料，而抛光机是生产抛光片不可或缺的主要设备之一，其中由日本FUJIKOSHI公司生产的SPM-19/23型抛光机和SPEEDFAM公司生产的SPAW50抛光机，在目前国内的单晶硅抛光片制造厂商中得到广泛使用，该型抛光机采用化学机械抛光方式实现对单晶硅片表面的抛光处理，在工作过程中必须保证化学腐蚀速率与机械去除速率完全匹配，因此抛光液/纯水的供应状态对于单晶硅抛光片（以下简称硅片）的产品质量具有极其重要的影响。

抛光硅片生产过程，分为刷布、装载、抛光液抛光、纯水抛光、卸载等五阶段，刷布和纯水抛光需要纯水大流量，装载和卸载时需要纯水小流量，抛光液抛光时需要稳定的抛光液流量，抛光液/纯水通过主转盘中心管向主转盘持续供应抛光液/纯水，此时，一方面要求抛光液/纯水以工艺设定的温度、流量稳定地向主转盘供应，以保证对硅片表面化学腐蚀作用的均匀性，同时要求抛光液/纯水始终保持较高洁净度，以免对硅片表面造成二次污染或其它损伤。然而在实际运行过程中我们发现，这两种抛光机的抛光液管路系统都存在以下突出问题：上述两种抛光机的抛光液/纯水管路分别进入主转盘中心管，当抛光液停止供应后，多个管路、零部件及管件中会积存大量抛光液，随着时间推移，这部分抛光液逐渐沉积在管壁及零部件、管件内部，形成难以清除的固态结晶体，从而引发一系列故障。

实用新型内容

本实用新型的目的是为解决上述问题，提供一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路。

本实用新型的技术方案是：一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路，包括纯水抛光系统和抛光液抛光系统和主管道，所述纯水抛光系统包括第一管道和与所述第一管道并联的第二管道，所述第一管道上设置有大流量气动阀，所述第二管道上设置有小流量气动阀，第一管道和第二管道上还分别设置有相配合使用的第一手动调节阀，纯水分别通过纯水大流量气动阀和小流量气动阀汇入设置有第一流量计的第三管道；所述抛光液抛光系统包括第四管道和设置在所述第四管道上的抛光液调节阀和第一单向阀；所述第三管道和第四管道汇入所述主管道，主管道上设置有主气动阀、第二流量计和第一温度探头。

进一步优化，所述第一管道的延伸部一端连接纯水水源，并通过设置在延伸部的纯水调节阀进行导流和截流。

进一步优化，所述主管道的尾端连接有主转盘中心。

进一步优化，抛光液抛光时，抛光液经第四管道和主管道进入主转盘中心。

进一步优化，纯水抛光包括纯水刷布、纯水装载和纯水卸载，纯水刷布时，纯水经第一管道和第三管道进入主管道并最终流入主转盘中心，通过大流量气动阀控制纯水流量以实现对主管道进行冲洗；纯水装载和纯水卸载时，纯水经第二管道和第三管道进入主管道并最终流入主转盘中心，通过小流量气动阀控制纯水流量以实现对主管道进行冲洗。

进一步优化，所述第三管道上还设置有用于检测纯水温度的第二温度探头和第二单向阀。

进一步优化，所述第一温度探头和第二温度探头均采用型号为PT100的温度探头。

本实用新型的有益效果为：