[实用新型]一种安装工具有效

专利信息
申请号: 201920652370.1 申请日: 2019-05-08
公开(公告)号: CN209571401U 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: 魏远哲;刘焰平 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/67;B25B11/00;B23P19/00
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 环形架 安装工具 钩挂 本实用新型 静电吸盘 安装孔 挂钩 半导体制造技术 周向均匀设置 环形凸缘 分气盘 聚合物 同一面 电极 均布 刻蚀 良率 同向 外沿 制程
【说明书】:

本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种安装工具,用于静电吸盘的安装,安装工具包括:一环形架,环形架上设有多个安装孔,多个安装孔沿环形架的周向均匀设置;多个挂钩,均布于环形架的周向外侧,挂钩包括钩挂部,多个挂钩的钩挂部朝向环形架的同一面;一环形凸缘,设置于环形架与钩挂部同向的一面的外沿。本实用新型技术方案的有益效果在于:提供一种静电吸盘的安装工具,使上电极和分气盘之间距离均匀,避免聚合物聚集在缝隙内而影响刻蚀制程的良率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种用于安装静电吸盘的安装工具。

背景技术

随着半导体制造工艺的发展,等离子体处理工艺被广泛应用于半导体元器件的制程中,上述制程,如沉积、刻蚀工艺等一般是在等离子体处理装置内进行。静电吸盘(Electrostatic chuck,简称ESC)是一种适用于大气或真空环境的超洁净薄片承载体、抓取搬运设备的总称,其所使用的静电吸附技术是一种替代传统机械夹持、真空吸附方式的优势技术,在半导体、面板显示、光学等领域中有着广泛应用。

现有一种ESC包括上电极(up ground ring)和分气盘(shower head),上电极为圆环形,分气盘为圆盘形。由于上电极的内径略大于分气盘的直径,因此,上电极与分气盘之间有缝隙,若缝隙不均匀则会导致刻蚀制程中产生的聚合物(polymer)聚集在上电极与分气盘之间,若聚合物掉落在正在刻蚀的晶圆上,则蚀刻晶圆的过程中容易造成缺陷,影响晶圆的良率。因此,现需一种ESC安装工具,使上电极和分气盘距离均匀,避免腔体(chamber)内的刻蚀制程失败。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题,现提供一种安装工具。

具体技术方案如下:

本实用新型包括一种安装工具,用于静电吸盘的安装,所述安装工具包括:

一环形架,所述环形架上设有多个安装孔,多个所述安装孔沿所述环形架的周向均匀设置;

多个挂钩,均布于所述环形架的周向外侧,所述挂钩包括钩挂部,所述多个挂钩的所述钩挂部朝向所述环形架的同一面;

一环形凸缘,设置于所述环形架的与所述钩挂部同向的一面的外沿。

优选的,所述挂钩包括突出部,所述突出部一端自所述环形架的周向外侧径向伸出,另一端连接所述钩挂部。

优选的,所述钩挂部包括垂直部及水平部;

所述垂直部的一端连接所述突出部,另一端连接所述水平部;

所述水平部一端连接所述垂直部远离所述突出部的一端,并向所述环形架方向延伸。

优选的,所述水平部的长度与所述突出部长度相同。

优选的,所述水平部朝向所述环形架的一端具有第一弧面,所述第一弧面与所述环形架外周面延伸形成的柱面适配;

所述水平部背向所述环形架的一端具有第二弧面。

优选的,所述水平部设置有与所述环形架周向同心的弧形孔。

优选的,所述安装工具用于将所述静电吸盘安装到一腔体,所述弧形孔的位置及尺寸与所述腔体内的定位销位置及尺寸适配。

优选的,所述挂钩设置有三个。

优选的,所述静电吸盘包括分气盘,所述环形凸缘的内径与所述分气盘适配。

优选的,所述静电吸盘包括圆环形的上电极,所述环形凸缘的外径与所述上电极的内径适配。

本实用新型技术方案的有益效果在于:提供一种静电吸盘的安装工具,使上电极和分气盘之间距离均匀,进而改善刻蚀制程的良率。

附图说明

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