[实用新型]等离子刻蚀机

说明书

本实用新型公开了一种等离子刻蚀机，属于半导体技术领域。等离子刻蚀机包括：腔体；位于腔体中的两个电极，两个电极包括第一电极和第二电极，第一电极上设置有待刻蚀件放置台，第二电极位于待刻蚀件放置台远离第一电极的一侧；金属挡板，金属挡板位于第二电极和待刻蚀件放置台之间，金属挡板上设置有多个通孔；工艺气体导管，工艺气体导管的一端位于金属挡板和第二电极之间。相较于陶瓷板之间的间隙，金属挡板上的通孔的位置以及分布容易调整，因而可以根据工艺气体的分布情况来调整通孔的位置和分布，以提高工艺气体分布的均匀性。解决了相关技术中待刻蚀件不同区域刻蚀的均匀性较差的问题，达到了提高刻蚀的均匀性的效果。

技术领域

本实用新型涉及刻蚀技术领域，特别涉及一种等离子刻蚀机。

背景技术

等离子刻蚀机是一种通过等离子体引起的化学反应和轰击产生的物理反应对待刻蚀件进行刻蚀的装置。

相关技术中的一种等离子刻蚀机包括腔体、位于腔体中的两个电极和挡板，其中的第一电极用于放置待刻蚀件，挡板设置在第二电极靠近第一电极的一侧，挡板和第二电极之间设置有工艺气体喷口，该挡板由多块陶瓷板拼接而成，陶瓷板之间设置有空隙，工艺气体喷口喷出的工艺气体可以通过该空隙进入挡板和第一电极之间，并在两个电极的电场的作用下产生等离子体以对待刻蚀件进行刻蚀。

由于陶瓷板之间的空隙的位置以及分布难以调节，导致工艺气体从该空隙进入挡板和第一电极之间后，难以均匀的分布，进而使得对于待刻蚀件不同区域刻蚀的均匀性较差。

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种等离子刻蚀机，可以解决相关技术中待刻蚀件不同区域刻蚀的均匀性较差的问题。所述技术方案如下：

根据本实用新型的第一方面，提供了一种等离子刻蚀机，所述等离子刻蚀机包括：

腔体；

位于腔体中的两个电极，所述两个电极包括第一电极和第二电极，所述第一电极上设置有待刻蚀件放置台，所述第二电极位于所述待刻蚀件放置台远离所述第一电极的一侧；

金属挡板，所述金属挡板位于所述第二电极和所述待刻蚀件放置台之间，所述金属挡板上设置有多个通孔；

工艺气体导管，所述工艺气体导管的一端位于所述金属挡板和所述第二电极之间。

可选的，所述腔体被所述金属挡板分割为两个子腔室，所述两个子腔室由所述金属挡板上设置的多个通孔连通。

可选的，所述金属挡板的表面设置有防腐蚀层。

可选的，所述工艺气体导管穿过所述第二电极，且所述工艺气体导管的一端朝向所述金属挡板。

可选的，所述金属挡板包括中心区域和围绕所述中心区域的周边区域，所述工艺气体导管的一端在所述金属挡板上的正投影位于所述中心区域中，

所述中心区域中所述通孔的密度小于所述周边区域中所述通孔的密度。

可选的，所述等离子刻蚀机还包括保护板，

所述保护板位于所述第二电极和所述金属挡板之间，所述保护板上设置有导管通孔，所述工艺气体导管的一端与所述导管通孔连通。

可选的，所述第二电极包括多个子电极，所述多个子电极在所述第一电极上的正投影位于所述第一电极的不同区域。

可选的，所述金属挡板为一体件。

可选的，所述第二电极包括耦合线圈。

可选的，所述第一电极和所述待刻蚀件放置台为一体件。

本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：