[实用新型]缺陷检测设备

权利要求书

1.一种缺陷检测设备，用于对完成刻划工艺的待测基板进行缺陷检测，其特征在于，所述待测基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的背电极层；所述设备包括：

光源组件，用于提供光照，所述光源组件包括第一光源；

采集装置，用于在所述第一光源发光时，采集所述第一光源透过所述待测基板形成的第一图像数据；

处理装置，与所述采集装置相连接，用于根据所述第一图像数据反映的对应于各个刻划位置的光学参数分析所述待测基板是否存在缺陷。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光源组件还包括第二光源，所述第一光源与所述第二光源分设于所述待测基板的两侧；

所述采集装置位于所述背电极层远离所述衬底基板的一侧；

所述采集装置还用于在所述第二光源发光时，采集所述第二光源由所述背电极层所在表面反射的第二图像数据。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，还包括控制开关，所述控制开关与所述第一光源和所述第二光源相连接，用于控制所述第一光源和所述第二光源的开启与关闭。

4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一光源与所述第二光源为不同颜色光的光源。

5.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一光源为红光光源、绿光光源和蓝光光源中的一种，所述第二光源为红光光源、绿光光源和蓝光光源中的另一种。

6.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一光源包括线形排布的发光二极管阵列或者冷阴极荧光灯管，所述第二光源包括线形排布的发光二极管阵列或者冷阴极荧光灯管。

7.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第二光源包括两组或多组发光单元，所述采集装置位于相邻所述发光单元之间。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括：

驱动装置，用于控制所述待测基板运动至预设位置，所述预设位置位于所述采集装置的采集范围内。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括：

反馈装置，与所述处理装置以及执行所述刻划工艺的设备相连接，用于向执行所述刻划工艺的设备反馈所述缺陷的位置以及类型。

10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述采集装置为CCD相机或者CMOS相机。